ASML DUV 光刻機(jī) PAS 5500/750F DUV步進(jìn)和掃描系統(tǒng)使用成熟的 248-nm KrF技術(shù)實(shí)現(xiàn)130nm量產(chǎn)。它結(jié)合了改進(jìn)的0.7 NA 4x縮小鏡頭的成像能力,以及水準(zhǔn)系統(tǒng)中的多點(diǎn)創(chuàng)新和 AERIAL II 照明技術(shù),包括 QUASAR、多極照明和可選的多重曝光能力。該系統(tǒng)配備TTL對(duì)準(zhǔn)和ATHENA,以提高后端工藝層的對(duì)準(zhǔn)精度,提供小于25nm的長(zhǎng)期單機(jī)覆蓋,進(jìn)一步減少開銷時(shí)間,并結(jié)合提高客戶工作的生產(chǎn)率,提供了130(200mm)每小時(shí)的生產(chǎn)吞吐量。應(yīng)用具有可變激光器頻率控制的2 kHz 20W KrF激光器可以獲得的操作成本。