ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工-儀表網(wǎng)

公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

重慶津澤機(jī)電科技有限公司成立于2022年（以下簡(jiǎn)稱津澤機(jī)電）。公司坐落于美麗的山城重慶,以機(jī)電產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)為主的重慶津澤機(jī)電科技有限公司依靠西南先進(jìn)的制造業(yè)和西部國(guó)際綜合交通樞紐業(yè)務(wù)遍及華北、華中、華東、華南等多省份地區(qū)。

其主要經(jīng)營(yíng)范圍：五金工具、通訊器材、機(jī)械設(shè)備及汽車配件、自動(dòng)化設(shè)備、儀器儀表、實(shí)驗(yàn)耗材、包裝材料制品、金屬材料、建筑裝飾材料、半導(dǎo)體電氣材料、電力電子元器件、照明器具、工業(yè)器材及環(huán)境安全設(shè)備、光學(xué)產(chǎn)品、物流用品、勞保用品，機(jī)械設(shè)備安裝調(diào)試維修、工裝夾具設(shè)計(jì)、工程技術(shù)研究、通訊設(shè)備技術(shù)服務(wù)。

服務(wù)行業(yè)：五金機(jī)電、汽車船舶、電器通訊、金屬加工、印刷包裝、食品醫(yī)藥、建筑工程、化工衣料等以及其它制造業(yè)。

津澤機(jī)電以制造業(yè)為核心,以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)品質(zhì)為核心競(jìng)爭(zhēng)力,并以為顧客提供一站式的機(jī)電工業(yè)品供應(yīng)服務(wù)為己任,立志于為大中小制造業(yè)開拓工業(yè)產(chǎn)品之路拓展渠道以及售后服務(wù)。

我們的目標(biāo)：穩(wěn)拓規(guī)模平衡發(fā)展,力爭(zhēng)成為客戶信賴的長(zhǎng)期合作伙伴。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否

ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工
電弧等離子體沉積源APS-1，電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列

ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工產(chǎn)品詳情

ADVANCE電弧等離子體沉積源APS-1理工

電弧等離子體沉積源APS-1，電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列

產(chǎn)品介紹

電弧等離子體沉積源 APS-1

同時(shí)沉積不同的“目標(biāo)”。
通過(guò)將這種蒸鍍?cè)刺砑拥浆F(xiàn)有的電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列或您自己的真空室中，可以同時(shí)蒸鍍不同的“目標(biāo)”，從而可以生成具有新特性的材料。

用法

生成具有多個(gè)沉積源的化合物

添加到現(xiàn)有的真空室

特征

納米粒子的尺寸比傳統(tǒng)的濕法更均勻，因此可以生產(chǎn)出高活性的催化劑。

納米顆粒尺寸可選擇約 1.5nm 至 6nm

通過(guò)改變氣氛容易產(chǎn)生氧化物和氮化物

如果有相當(dāng)于ICF070（VG50）的法蘭，則可以任意方向安裝。

無(wú)需水冷設(shè)備，維護(hù)方便

規(guī)格

目標(biāo)維度	φ10mm×長(zhǎng)17mm
電路板尺寸	φ 2 英寸（φ 50 毫米）
沉積速度	0.01 納米/秒至 0.3 納米/秒*1
膜厚分布	對(duì)于 Fe：< ± 10 %（φ 20 mm 區(qū)域）*1
可以沉積的材料	一般導(dǎo)電材料*2

電弧等離子體法納米粒子形成裝置APD系列

使用脈沖真空電弧放電的新型納米粒子形成裝置
脈沖真空電弧沉積是一種在簡(jiǎn)單過(guò)程中生成金屬離子并形成超薄膜和納米粒子的方法。
可以獲得其他氣相沉積方法無(wú)法獲得的效果，例如薄膜平坦性和微粒形成。

用途

APD-S（基板沉積模型）
金屬薄膜（磁性、等離子體、保護(hù)膜）

使用APD-P（粉末支撐型）納米顆粒的燃料電池催化劑、尾氣催化劑、光催化劑、VOC分解催化劑、碳納米管催化劑、等離子體激元

特征

通過(guò)改變電容器的電容量，納米粒子的粒徑可以在大約 1.5 nm 到 6 nm 之間自由選擇。

任何導(dǎo)電材料（靶）都可以變成等離子體* 靶的比電阻為 0.01Ωcm 或更小

通過(guò)改變氣氛容易產(chǎn)生氧化物和氮化物

與濕法工藝相比，負(fù)載型納米顆粒表現(xiàn)出更高的催化活性

電弧等離子APD.png 電弧等離子APS-1.png

關(guān)鍵詞：電容器

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