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  • PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地鄭州市
  • 更新時(shí)間2023-05-09
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量272
  • 人氣值870
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河南諾巴迪材料科技有限公司是集研究?開(kāi)發(fā)?制造?經(jīng)營(yíng)為一體的*創(chuàng)新型企業(yè),產(chǎn)品已經(jīng)遍布亞歐美,覆蓋國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室,諾巴迪品牌已經(jīng)成為受客戶歡迎和信任的品牌之一。  

   公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)客戶為宗旨,積極研究開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品,奉獻(xiàn)于教育和科研,經(jīng)過(guò)*的研發(fā)和不斷的技術(shù)積累,擁有熱工、制造、控制相關(guān)技術(shù)30余項(xiàng),為化學(xué)、物理、材料、電子、高分子工程、新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過(guò)引進(jìn)“千人”強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息、技術(shù)交流平臺(tái),為諾巴迪化發(fā)展提供了強(qiáng)有力的支持!

   目前公司已研發(fā)生產(chǎn)29個(gè)系列178款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括管式爐、真空爐、升降爐、快速退火爐(RTP)、箱式爐、澆注爐、旋轉(zhuǎn)爐等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,遠(yuǎn)銷歐美及東亞地區(qū),多款設(shè)備取得了歐盟CE認(rèn)證。

   公司與“新世紀(jì)材料基因組工程研究院”有多層次的戰(zhàn)略合作關(guān)系,建有開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室,新能源新材料領(lǐng)域的千人教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開(kāi)發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力、科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝、精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,我們諾巴迪人時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。

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該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,采用集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。
PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

設(shè)備簡(jiǎn)介:

該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,采用集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。





配置詳情

1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;

2. 上開(kāi)啟式結(jié)構(gòu),方便觀察試樣;

3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數(shù)字化顯示;

4. 設(shè)備一體化程度高;

5. 穩(wěn)定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質(zhì)量;

產(chǎn)品型號(hào)

NBD-PECVD1200-80IT

電氣規(guī)格

AC220V 4KW

可達(dá)溫度

1200 ℃

連續(xù)溫度

1150℃

可達(dá)加熱速率

≤ 20 ℃/分鐘

射頻電源

300或500W 13.56MHz

爐管尺寸

Φ80*1200mm

沉積示意圖

如圖所示:此為該設(shè)備沉積過(guò)程中的示意圖

控制系統(tǒng)

1.NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機(jī)對(duì)話模式,實(shí)時(shí)加熱功率顯示,非線性式樣溫度修正;實(shí)驗(yàn)報(bào)告自主生成,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)無(wú)限次導(dǎo)出。

2.實(shí)驗(yàn)過(guò)程更加直觀,操作更加便捷;

3.具有超溫報(bào)警、斷偶提示、漏電保護(hù)等功能。

溫度精度

+/- 1 ℃

加熱元件

Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封系統(tǒng)

真空度:≤10Pa(機(jī)械泵)

壓力測(cè)量與監(jiān)控

采用數(shù)顯真空計(jì),可使設(shè)備真空度更加直觀,實(shí)驗(yàn)結(jié)果更加準(zhǔn)確。

供氣系統(tǒng)

采用兩路質(zhì)子流量計(jì)精確控制氣體流速,與設(shè)備集成為一體;

凈重

360KG

設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1. 設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害;

2. 設(shè)備使用時(shí),爐管內(nèi)壓力不得超過(guò)0.125MPa(壓力),以防止壓力過(guò)大造成設(shè)備損壞;

3. 真空下使用時(shí),設(shè)備使用溫度不得超過(guò)800℃。

4. 供氣鋼瓶?jī)?nèi)部氣壓較高,向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在選購(gòu)試驗(yàn)用小壓力減壓閥,減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全。

5.當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓 相當(dāng),保持在常壓狀態(tài);

6.高純石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度≦1100℃

7.加熱的實(shí)驗(yàn)時(shí),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若壓力表讀數(shù)大于0.15MPa,必須立刻打開(kāi)排氣端閥門,以防意外發(fā)生(如爐 管破裂,法蘭飛出等)

服務(wù)支持

1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等)。


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