高溫/高壓池HTHP

在條件下進(jìn)行的原位分析附件

產(chǎn)品簡介

高科技產(chǎn)品和現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)過程需要在溫度和壓力條件下的原位分析。Specac的高溫高壓池在應(yīng)用非常穩(wěn)定，效果出色，能解決非常復(fù)雜的實(shí)驗(yàn)

Specac高溫/高壓池有能力再創(chuàng)造這些條件，進(jìn)行光譜分析樣品或模擬實(shí)驗(yàn)室的過程。

樣品池設(shè)計(jì)用于高光學(xué)通量，并允許在多種目的分析配置、透射、反射和雙重之間進(jìn)行簡單交換(見圖1，2，3)。

主要特征

ü 條件光譜儀--可編程控制溫度*高可達(dá)800℃ ,壓力范圍從真空到1000psi

ü 多目的分析儀--透射、鏡面反射和雙重模式

ü 優(yōu)化設(shè)計(jì)--允許在分析模式之間進(jìn)行簡單交換

ü 安全和可靠的結(jié)構(gòu)--堅(jiān)固耐用的結(jié)構(gòu)、經(jīng)過安全驗(yàn)證的電子器件以及安全隔膜

應(yīng)用范圍

ü 組件失效分析

ü 分解研究

ü 原位反應(yīng)監(jiān)測

ü 表面反射率測試

ü 過程氣體分析，催化反應(yīng)

特性及操作

高溫/高壓池可以使用透射、鏡面反射和雙重模式來分析固體樣品，以及靜態(tài)或流動傳輸模式的過程氣體。樣品溫度可高達(dá)800℃，樣品池可在真空到1000psi壓力下使用。

樣品池窗片和主體可獨(dú)立加熱和控制到高達(dá)200℃的溫度，可阻止內(nèi)部的材料凝結(jié)后附著到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止對光譜儀樣品倉內(nèi)的樣品過度加熱，維持表面在一個(gè)安全的溫度。

可通過更換樣品池主體上的光學(xué)加壓窗片組件并安裝到基板上來進(jìn)行透射(*大樣品尺寸13mm)和鏡面反射模式切換。

簡單的重新定位樣品支架/加熱器組件，將加熱的樣品放到光束下的器皿中，即可獲得分解模式。樣品在不同溫度得到的氣體可以被分析出來。樣品池可為氣體分析或清洗提供穩(wěn)定的氣流。樣品池體積為80ml。

樣品池溫度使用一個(gè)可手動或通過計(jì)算機(jī)編程的專用的控制器來調(diào)節(jié)。設(shè)計(jì)結(jié)合了一系列重要安全特征。尤其是，樣品池的所有的電源供應(yīng)都符合加拿大標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(CSA)規(guī)定(30V或更低)，溫控器在熱電偶輸入上安裝有開路探測可阻止過熱。

樣品池本身安裝了一個(gè)安全隔板可防止偶然的過壓，如有需要，其可以安裝到通風(fēng)櫥中或其他地方。標(biāo)準(zhǔn)的樣品池是耐用的316不銹鋼制成的，如有需要可以拆開進(jìn)行的清潔。

訂購信息

GS05850高溫/高壓池 不含反射附件

包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，可

編程高穩(wěn)定性溫控器。

請光譜儀制造廠家和型號。

GS05855上等高溫/高壓樣品池系統(tǒng) 含反射附件

包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，

反射模式楔形加壓窗片組件和反射模式基板，可編程高穩(wěn)定性溫控器。

請光譜儀制造廠家和型號。

GS05860反射模式套裝

包括:可將GS05850 HTHP樣品池轉(zhuǎn)化成上等的HTHP樣品池(GS05855)

的部件套裝

GS05865密封套件備件

GS05867 ZnSe樣品池窗片備件 (經(jīng)過測試和認(rèn)證的)

GS05868分解盤--備用件(2個(gè))

GS05869"安全隔板"備件

可選項(xiàng)

GS05870 HTHP樣品池ESK

GS28000 RS232連接包

GS28001 USB連接包

GS28002 RS485連接包