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離子濺射儀

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2023-06-09
  • 廠商性質其他
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數量6
  • 人氣值43
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離子濺射儀集合了二極濺射模式之精華,并經重新定義設計,的電流與真空度記錄曲線相結合可以進行常規(guī)的樣品制樣,還可以滿足各種復雜特殊材料的樣品制備要求,對于高分子薄膜,地質材料,半導體材料等各種樣品的制備可以輕松應用
離子濺射儀 產品詳情

  離子濺射儀集合了二極濺射模式之精華,并經重新定義設計,的電流與真空度記錄曲線相結合可以進行常規(guī)的樣品制樣,還可以滿足各種復雜特殊材料的樣品制備要求,對于高分子薄膜,地質材料,半導體材料等各種樣品的制備可以輕松應用。

穩(wěn)定可靠的硬件,始終如一                   人性化操作界面,易懂易用

 良好的擴展功能,遠矚                   低使用成本設計,經濟實用 


濺射系統

*的高壓直流濺射/磁控低壓濺射              

高精密加工的金屬濺射靶頭                         

長壽命額定功率的直流濺射電源

高精度的真空測量系統

高性能的真空控制系統

可程序化設定的濺射周期


離子濺射儀是制備SEM樣品和電極表面涂層廣泛使用的一種方法,具有快捷、高效、無污染和大面積制備等優(yōu)點。Microhezao離子濺射儀將成為大部分的物理或材料實驗室樣品制備的一部分。

 

            外形尺寸: 424× 290×2 65 (mm)     工作電壓: 200-240VAC 50H z

     濺射電壓: DC2400V                           控制模式: 微處理器控制

     功率: 500W                                 濺射電流: ≤30 mA

     濺射時間: ≤600s                                極限真空 : 0.1Pa

     工作真空: ≤30Pa                               膜層厚度: 內置膜厚估算(金靶)

     真空測量: 電阻規(guī)               真空 速 率: <2L /s

          


電源和環(huán)境要求

220V±10%,50/60Hz,

功率4KVA單獨地線<30Ω(干燥地區(qū)<10Ω)

溫度10-30℃(每小時變化<5℃)
濕度 80%以下






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