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蔡司 鎢燈絲掃描電鏡EVO 10
產(chǎn)品用途：?
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)、PCB行業(yè)、工業(yè)測(cè)量、醫(yī)療技術(shù)、材料類等行業(yè)的分析與研究，
為用戶提供從微米到納米一直到亞納米級(jí)別的全套解決方案。
性能優(yōu)勢(shì)：?
?1.操作簡(jiǎn)便–Optibeam模式，快速切換分辨率、視場(chǎng)6mm或景深；
2.超大束流，景深的分析能力；
3.超大樣品室，能處理的樣品尺寸可達(dá)200-300mm直徑和100-210mm高–滿足大樣品的觀察需求 ；
4.全自動(dòng)5軸優(yōu)中心馬達(dá)臺(tái)–具有大的移動(dòng)范圍和的重復(fù)精度；
5.X射線幾何設(shè)計(jì)技術(shù)–具有業(yè)界的8.5mm(35°出射角)的分析工作距離；
6.對(duì)于非導(dǎo)電樣品，采用BeamSleeve電子束襯管技術(shù) 可有效 提高圖像分辨率和能譜分析精度；
7.關(guān)聯(lián)顯微鏡–疊加光鏡與電鏡圖像，得到更多信息，分辨率、顏色、 成分；
8.標(biāo)配高性能的背散射電子探測(cè)器 BSD，增強(qiáng)低電壓性能及提供更豐富的形貌信息 。
?? Specitications規(guī)格參數(shù) 序號(hào) 項(xiàng)目 規(guī)格、參數(shù) 1 分辨率 3 nm@ 30 kV - SE 2 加速電壓范圍 0.2-30kV， 10V步進(jìn) 3 放大倍率 7 - 1,000,000 x(底片倍率) 4 束流 0.5pA–5uA 5 X射線幾何條件 EDS分析工作距離為8.5mm，出射角度35° 6 操作模式 具有OptiBeam模式，分為分辨率、高景深、大視野，模式之間不需人工調(diào)節(jié)參數(shù)，可自由轉(zhuǎn)換 7 樣品室大小 310mm (?) x 220mm (h) 8 樣品臺(tái) 5軸優(yōu)中心樣品臺(tái) X =80mm ? Y=100mm 9 樣品臺(tái)精度 2um 10 試樣直徑 200mm 11 試樣高度 100mm 12 樣品室CCD相機(jī) 標(biāo)配原廠CCD相機(jī) 13 關(guān)聯(lián)顯微鏡 可實(shí)現(xiàn)蔡司光鏡與電鏡的結(jié)合，利用光鏡方便定位的特點(diǎn)，在電鏡下可迅速找到感興趣部位，以后皆可拓展
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4 nm@ 30 kV - BSD
T = -10 - 90°
R = 360° (continuous)
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