KJ-CVD 是一種分體式管式爐,配備 60mm 直徑的石英管、真空泵和四通道質量流量計氣體流動系統(tǒng)。 可混合1-6種氣體進行CVD。
應用范圍:
此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
技術參數(shù):
產品名稱 | 1600 CVD 系統(tǒng) | |
產品型號 | KJ-T1600 CVD | |
部分:標準部分 | ||
管式爐 | 顯示 | LED |
爐體 | 分體式和上部可以打開 | |
溫度 | 1600℃ | |
工作溫度 | ≤1500℃ | |
升溫速率 | 0~10℃/min | |
溫區(qū) | 300mm | |
加熱元件 | MoSi2加熱元件 | |
熱電偶 | B 型 | |
溫度控制精度 | ±1℃ | |
爐管 | 80 x 1000mm (OD x minimum L) | |
材質:高純氧化鋁管 | ||
溫度控制 | 通過可控硅功率控制進行PID自動控制 | |
加熱曲線 | 30 步可編程 | |
真空法蘭 | 帶閥門的不銹鋼真空法蘭 | |
電壓與功率 | 220V, 50 Hz, 單相 4KW | |
真空泵系統(tǒng) | 旋片真空泵+擴散真空泵 | 真空泵組:極限真空10-6 Torr。 旋片真空泵和擴散真空泵將設計成推車帶輪子。 |
質量流量計 | 四個精密質量流量計: 底殼安裝1個氣體混合罐,底殼左側安裝6個不銹鋼針閥,手動控制6種氣體混合 |
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