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簡介

SE500
橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進入樣品介質(zhì)后會反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會對偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會被橢偏儀測量，橢偏儀就是利用這個介質(zhì)對偏振光性質(zhì)改變的原理來表征介質(zhì)的性質(zhì)的
SE500型號采用雙光譜儀耦合實現(xiàn)250-1700nm超長波段的探測，可實現(xiàn)對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究，同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應用需求。

系統(tǒng)配置:

 探測器：陣列探測器,

光源：高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

軟件：TFProbe 3.3版本的軟件

入射角度變化：手動調(diào)節(jié)

 測量種類：薄膜厚度、折射率和消光系數(shù)以及多層膜堆疊

計算機：Intel雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

保修：一年的整機及零部件保修

規(guī)格參數(shù)

波長范圍：250nm到1700 nm

光斑尺寸：1mm至5mm可變

樣品尺寸：直徑可達200mm

測量厚度范圍*：?30μm

測量時間：約1秒/位置點

入射角范圍：20到90度，5度間隔

 重復性誤差*：小于1 ?

可選項配置:

用于反射的光度測量或透射測量；

用于測量小區(qū)域的微小光斑；

用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣恿拷瞧鳎?/span>

X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；

加熱/致冷平臺；

樣品垂直安裝角度計；

波長可擴展到遠DUV或IR范圍；

掃描單色儀的配置；

聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對樣品的圖像進行測量等。

其他選項配置:

用于玻璃基底測量的特殊樣品架

用于觀察樣品區(qū)的可視模塊

加熱或制冷平臺

可用于實時在線測量

其他尺寸的樣品臺

用于 Liquid Cell 的特殊配置

用于單波長或窄波段探測的單色掃描儀配置

相關產(chǎn)品

光譜反射分析系列：SR100、SR300、SR500等

微光斑分析系列：MSP100、MSP300、MSP500等

橢偏儀系列：SE200BA、SE200BM等

自動掃描測試平臺：M100、M150、M200等