電鏡樣品等離子清洗 & 高真空樣品保護腔 GV/GA
GV/GA是用于清洗和儲存SEM&TEM電鏡桿的高真空處理腔。使用A05型GV/GA DS等離子清洗器可以極大的減少EM腔體中沉積的碳氫化合物污染。GV10x安裝在灰化器上，通過等離子灰化處理，EM腔體的污染能得到明顯改善。通過溫和的氧離子灰化處理可對樣品和TEM電鏡桿表面進行很好的清洗且不對樣品產生損傷，詳細介紹參考文獻： Cleaning TEM Samples on Carbon Films Microscopy-Today January 2014 for a detailed discussion.
等離子清洗機通過加速離子從而達到濺射或者刻蝕樣品，而GV/GA中使用氧原子或氫原子通過化學反應消除碳氫化合物。整個過程中并沒有熱量或者離子轟擊產生。氧氣將碳氫化合物轉化為CO2 CO 或 H2O分子從而通過真空泵抽走。因此，整個處理過程能有效消除碳氫化合物而絕不會損壞樣品。
建議使用60l/m的真空泵和80l/s的TMP。
Bench Top A05 GA Chamber P5 Source 2U A05 GA Chamber P5 Source
特點：
• 新型腔體 A05結合GV10X等離子清洗機使用，使用兩種控制器，Bench Top可以直接在控制器上設置參數。2U需要連接電腦使用• 適用于所有TEM的電鏡樣品桿
• 適用于從腔體前面插入清洗
• 可同時清洗和保存3個電鏡桿
• 有效保存樣品防止高分辨率成像退化
• 防止樣品因SEM&TEM腔體污染導致內部顯微結構中產生氣相
• 操作簡單，使用極為方便。
