1200度氣氛井式爐主要用途:
適用于各大專校校、科研院所、工礦企業(yè)主要用于真空或惰性氣體中的新材料,退火或擴散半導體晶片,也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等。
爐內(nèi)氣氛:氮氣、氬氣等保護性氣體
開門方式:上開門,取料
產(chǎn)品名稱 | 1200度氣氛井式爐 |
設(shè)計溫度 | 1200℃ |
工作溫度 | 1100℃ |
升溫速率 | 10-15℃/min |
控溫精度 | ±1℃ |
爐膛尺寸 | ?200*200(內(nèi)徑*高) |
密封 | 304不銹鋼法蘭密封 |
流量計 | 浮子流量計 |
真空度 | -0.1Mpa(真空度可以客戶需要配置不同的真空系統(tǒng)) |
額定電壓 | AC 220V 50/60 Hz |
額定功率 | 3KW |
期 | 一年 |