裝置概述
本裝置是催化劑預(yù)處理裝置,擁有四個(gè)氣路,兩套獨(dú)立的氣路控制單元,加熱爐安裝在裝置的左右兩側(cè),選用精密的控制儀表,使得裝置具有控溫精度高、可靠性高、操作簡便、結(jié)構(gòu)緊湊的特點(diǎn)。該裝置可用于催化劑預(yù)處理,包括還原、氧化、碳化、硫化、氮化等,也可用于復(fù)合材料的后處理。
技術(shù)參數(shù)
- 氣路:1-4(任選);
- 加熱爐:1-2(任選),加熱爐溫度Max:1200 ℃;
- 氣體質(zhì)量流量器:0 – 500 mL/min(任選);
- 工作壓力:常壓;
- 溫度控制:± 0.5 ℃;
- 計(jì)算機(jī)控制(任選)。