PLASMA桌面型多功能等離子設備概要: |
是針對研發(fā)、試產需求設計的桌面型多功能等離子處理系統。其緊湊可靠的設計可在真空腔室內產生密集、均勻的等離子體,適用于等離子表面處理、表面刻蝕以及其它多種工藝應用。
PLASMA桌面型多功能等離子設備特點: |
設計緊湊的桌面型等離子工藝平臺,易于與廠務端連接 |
可靠的腔體結構設計,確保工藝腔體具備的氣密性與耐用性 |
優(yōu)秀的進氣、排氣設計,保證工藝過程的均勻性 |
支持多種電極形式與最多4路工藝氣體,適用于處理各種產品并適應多種工藝要求 |
直觀的圖形控制界面,通過觸屏可實時觀察、控制工藝過程 |
13.56MHz射頻電源與自動匹配系統,具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復性 |
需要詳細參數資料,請聯系我們