ZIF真空感應(yīng)熔煉爐
| 型號(hào) | VIBF-1 | |||
樣品重量 | 10G純鐵樣品 | ||||
石英熔煉坩堝加熱區(qū) | Dia15X50mm | ||||
旋轉(zhuǎn)靶臺(tái) | 滾輪旋轉(zhuǎn)裝置1套 表面線速度0-50M/S 無極變頻調(diào)速 | ||||
真空噴注裝置 | 提供真空噴注磨具一套 | ||||
加熱溫度 | 1900度 | ||||
加熱電源 | 采用電源 | 高頻感應(yīng)電源 | |||
振蕩頻率 | 30-80KHZ | ||||
輸入功率 | 15KW | ||||
加熱電流 | 200~1000A | ||||
冷卻水要求 | ≥0.2MPa 2~5L/分 | ||||
電源重量 | 30KG | ||||
負(fù)載持續(xù)率 | 80% | ||||
輸入電壓 | 三相380V 50或60HZ | ||||
加熱方式 | 感應(yīng)加熱 | ||||
控溫模式 | 智能PID | ||||
腔體真空度(擴(kuò)散泵機(jī)組)(方案二) | < 5X10 -3Pa | ||||
腔體真空度(分子泵機(jī)組) (方案一) | < 5X10 -4Pa | ||||
腔體充氣壓力 | < 0.5MPa | ||||
升壓率 | <4Pa/小時(shí) | ||||
斷偶保護(hù)和顯示 | 有 | ||||
過溫保護(hù) | 有 | ||||
過流保護(hù) | 有 | ||||
欠壓保護(hù)(水壓) | 有 | ||||
控制精度 | +/- 1~ 5 ℃(600度以上) | ||||
溫度檢測方式 | 紅外測溫儀 | ||||
升溫速率 | 100度/Min | ||||
真空腔體內(nèi)是否可接水冷坩堝 | 可以 | ||||
觀察窗尺寸 | Dia 90mm | ||||
主真空室尺寸 | Dia500X400 | ||||
冷水機(jī)(選配) | CW-6100AH | ||||
真空機(jī)組
| 機(jī)組輸入電壓 | 380V /220V | |||
波紋管 | KF40X1000 | ||||
真空擋板閥 | KF40 | ||||
分子泵
(方案一)
| 分子泵型號(hào) | FJ620 | |||
輸入電壓 | 220V | ||||
分子泵進(jìn)氣口法蘭 | DN160 | ||||
分子泵抽氣速率L/S(對(duì)空氣) | 600 | ||||
分子泵極限壓強(qiáng)(Pa) | 6×10-7 | ||||
冷卻方式 | 水冷 | ||||
冷卻水壓(MPa) | 0.1-0.2 | ||||
冷卻水溫度 | <25℃ | ||||
環(huán)境溫度 | 0~40℃ | ||||
建議啟東壓強(qiáng) | <100Pa | ||||
前機(jī)真空泵RVP-6
| 功率 | 0.75KW | |||
電壓 | 380V | ||||
轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | ||||
進(jìn)氣口徑 | KF25/KF40 | ||||
前機(jī)泵抽氣速率(L/S) | 6 | ||||
極限壓強(qiáng) | 4X10 -2Pa | ||||
擴(kuò)散泵TK150 (方案二)
| 電壓 | 220V | |||
功率 | 1000W | ||||
進(jìn)氣接口 | DN150 | ||||
出氣接口 | DN40 | ||||
注入油量 | 0.3L | ||||
抽氣速率(N2) | 1000L/S | ||||
復(fù)合真空計(jì) | 復(fù)合真空計(jì)型號(hào) | ZDF | |||
電源 | 220V 55W | ||||
控制精度 | ± 1% | ||||
真空計(jì)測量范圍 | 10-5 -10 5 Pa |
設(shè)備用途
采用熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料,以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量生產(chǎn)。
設(shè)備組成
主要由感應(yīng)熔煉真空室、轉(zhuǎn)動(dòng)門、單輥旋淬裝置、感應(yīng)熔煉機(jī)構(gòu)、手動(dòng)直線進(jìn)給機(jī)構(gòu)、噴鑄系統(tǒng)、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。