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  • EVG810 LT 低溫鍵合 等離子活化系統(tǒng)2

EVG810 LT 低溫鍵合 等離子活化系統(tǒng)2

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2024-06-21
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量100
  • 人氣值501
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應(yīng)用:用于SOI,MEMS,化合物半導(dǎo)體和高級(jí)襯底鍵合的低溫鍵合等離子體活化系統(tǒng)一、簡介EVG810LT(LowTemp™)低溫鍵合等離子活化系統(tǒng)是一個(gè)單獨(dú)的單腔室系統(tǒng),具有手動(dòng)操作功能
EVG810 LT 低溫鍵合 等離子活化系統(tǒng)2 產(chǎn)品詳情

應(yīng)用:用于SOI,MEMS,化合物半導(dǎo)體和高級(jí)襯底鍵合的低溫鍵合等離子體活化系統(tǒng)

一、簡介

EVG810 LT (LowTemp™)低溫鍵合等離子活化系統(tǒng)是一個(gè)單獨(dú)的單腔室系統(tǒng),具有手動(dòng)操作功能。 處理室允許非原位處理(晶片一個(gè)接一個(gè)地活化并且鍵合在等離子體活化室外部)。

二、特征

用于低溫鍵合的表面等離子體活化(熔合/分子和中間層鍵合)

任何晶圓鍵合機(jī)制的zui快動(dòng)力學(xué)

無需濕法工藝

低溫退火時(shí)的zui高鍵合強(qiáng)度(zui高400°C)

適用于SOI,MEMS,化合物半導(dǎo)體和封裝

高度的材料兼容性(包括CMOS)

三、參數(shù)

1.晶圓尺寸:50-200mm,100-300mm

2.低溫等離子活化腔:

工藝氣體:2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體(N2和O2)

通用大流量控制器:自校準(zhǔn)(高達(dá)20.000 sccm)

真空系統(tǒng):0.09 mbar

打開/關(guān)閉腔室:自動(dòng)化

裝載/卸載腔室:手動(dòng)(晶圓/基板放置在裝載銷上)

3.備選功能:

用于不同的晶圓尺寸的夾頭

金屬離子活化

帶有氣體混合的附加工藝氣體

帶渦輪泵的高真空系統(tǒng):0.009 mbar的基礎(chǔ)氣壓

4.符合LowTemp™等離子活化鍵合的材料系統(tǒng)

Si:Si / Si,Si / Si(熱氧化,Si(熱氧化)/ Si(熱氧化)

TEOS / TEOS(熱氧化)

絕緣體鍺(GeOI)的Si / Ge

硅/Si3N4

玻璃(無堿浮法):硅/玻璃,玻璃/玻璃

化合物半導(dǎo)體:GaAs,GaP,InP

聚合物:PMMA,環(huán)烯烴聚合物

用戶可以針對(duì)上述內(nèi)容和其他材料使用“已知方法”配方(可根據(jù)要求提供完整列表)


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