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霍爾 遷移率

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設(shè)備主要利用微波測試原理,非接觸測試半導(dǎo)體材料,石墨烯,透明導(dǎo)電膜,碳納米管,金屬等材料的電學(xué)特性??蓪?shí)現(xiàn)單點(diǎn)測試,亦可以實(shí)現(xiàn)面掃描的測試功能,具有快速,無損,準(zhǔn)確等優(yōu)勢,可用于材料研發(fā)及工藝的監(jiān)測及質(zhì)量控制。
霍爾 遷移率 產(chǎn)品詳情

一、 產(chǎn)品描述

設(shè)備主要利用微波測試原理,非接觸測試半導(dǎo)體材料,石墨烯,透明導(dǎo)電膜,碳納米管,金屬等材料的電學(xué)特性。可實(shí)現(xiàn)單點(diǎn)測試,亦可以實(shí)現(xiàn)面掃描的測試功能,具有快速,無損,準(zhǔn)確等優(yōu)勢,可用于材料研發(fā)及工藝的監(jiān)測及質(zhì)量控制。

1.1 工作原理

非接觸Hall測試是一種利用微波原理來測試外延片載流子遷移率的測試方法,該方法在測試時(shí)利用微波源發(fā)射微波通過波導(dǎo)將微波傳輸至測試樣品表面,在磁場作用下具有不同遷移率的樣品對微波的反射效果不同,通過探測反射的微波功率再將其轉(zhuǎn)化為對應(yīng)的電導(dǎo)張量,從而建立模型可以計(jì)算出HEMT結(jié)構(gòu)的載流子濃度和遷移率。具體是設(shè)備通過微波發(fā)生器產(chǎn)生10 GHz的微波,入射樣品表面的TE10模的微波,會(huì)從測試樣品表面處產(chǎn)生兩種模式的反射波,一種是和入射波相同模式和極化的TE10反射波,通過探測反射回來的TE10波的功率,通過計(jì)算可得測試樣品的方塊電阻;另外一種反射波是TE11模的波,它是TE10波到達(dá)樣品表面時(shí),由于樣品在磁場作用下的霍爾效應(yīng)將TE10模旋轉(zhuǎn)90°以TE11模的波返回,通過探測此TE11模微波的功率,通過計(jì)算可得出測試樣品的載流子遷移率。

該系統(tǒng)使用一個(gè)工作在10 GHz的低功率微波源,耦合到一個(gè)波導(dǎo)網(wǎng)絡(luò),以便將功率引導(dǎo)到被測樣品的表面。波導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)的設(shè)計(jì)是這樣允許檢測和測量TE10TE11的傳播模式。

正常的TE10入射波用于產(chǎn)生從被測樣品中返回的兩種反射波。第one波,即反射功率,從樣本中返回的反射功率,與入射波處于相同的模式或偏振狀態(tài)。該反射波的功率被檢測、測量,并根據(jù)波導(dǎo)系統(tǒng)的總阻抗來計(jì)算樣品片電阻

樣品返回的第二波是由樣品在磁場影響下的霍爾效應(yīng)引起的TE11模式。正常的TE10入射波通過這種效應(yīng)旋轉(zhuǎn)90度,這個(gè)功率,即霍爾功率,由系統(tǒng)檢測和測量,并用于計(jì)算遷移率和載流板密度的剩余輸運(yùn)特性,HALL測試示意圖如圖2-1所示。


1.2 測試干擾因素

A.不同溫度對測試樣品的方阻及遷移率有影響,測試環(huán)境需恒溫;

B.不同光強(qiáng)對樣品的遷移率測試結(jié)果有影響,測試過程中應(yīng)關(guān)閉設(shè)備的遮光罩;

C.振動(dòng)、磁場、靜電等測試環(huán)境可對遷移率測試結(jié)果產(chǎn)生影響,測試過程應(yīng)采取嚴(yán)格的屏蔽措施;

D.樣品表面、吸附載物臺上的顆粒沾污會(huì)影響遷移率測試的準(zhǔn)確性,測試時(shí)應(yīng)確保樣品表面及吸附載物臺上無直徑大于10μm的大顆粒沾污。

1.3測試結(jié)果計(jì)算

當(dāng)TE10模微波傳輸至樣品表面時(shí),在無磁場情況下時(shí),由于樣品與波導(dǎo)特征阻抗不匹配,產(chǎn)生反射,微波反射率與樣品特征阻抗呈如下關(guān)系:


上式里面R---微波反射率

       Zo---波導(dǎo)特征阻抗

       Zs---樣品阻抗

微波反射功率RP和入射功率FP的比值為:


樣品方阻:


式中h---樣品厚度。

當(dāng)TE10模微波傳輸至樣品表面時(shí),在磁場作用下,樣品的霍爾效應(yīng)使電導(dǎo)張量發(fā)生偏轉(zhuǎn),TE10極化方向的電導(dǎo)張量為σxx,TE11極化方向的電導(dǎo)張量為σxy,則:


式中H---磁場強(qiáng)度。

根據(jù)霍爾效應(yīng)原理,載流子遷移率可由下式計(jì)算得出:


二、儀器主要特點(diǎn)

本儀器適用于遷移率量測范圍在100 cm2 /Vs 3000 cm2 /Vs 的射頻 GaN HEMT 外延片。

本儀器為非接觸,非損傷測試,具有測試速度快,重復(fù)性佳,測試敏感性高,可以直接測試產(chǎn)品片等優(yōu)點(diǎn)。

三、儀器技術(shù)指標(biāo)

儀器技術(shù)主要指標(biāo)如表3-1所示。

3-1

規(guī)格

描述

載流子遷移率測試范圍

100~20000cm2/V-sec

方塊電阻測試范圍

100-3000Ω/sq

載流子濃度

1E11 - 1E14

載流子遷移率動(dòng)態(tài)重復(fù)性

2%

載流子遷移率靜態(tài)重復(fù)性

1%

載流子遷移率測試準(zhǔn)確性

±10%

方塊電阻測試動(dòng)態(tài)重復(fù)性

2%

方塊電阻靜態(tài)重復(fù)性

1%

方塊電阻測試準(zhǔn)確性

±10%

測試樣品允許厚度

200-1500μm

測試樣片尺寸

2” - 8”

磁感應(yīng)強(qiáng)度

1.0T 可刪除可反轉(zhuǎn)

軟件要求

自動(dòng)輸出包含Mapping,二維等高線圖3D圖的報(bào)告

自動(dòng)傳送測試能力

可選配

 

關(guān)鍵詞:發(fā)生器
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