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  • PVD-210-HMDS晶片預處理烘箱

PVD-210-HMDS晶片預處理烘箱

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2024-10-09
  • 廠商性質生產廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量159
  • 人氣值441
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上海實貝儀器設備廠是Z早生產醫(yī)用,實驗室,分析設備的專業(yè)廠家。2008年與大同香港公司合作,成為大同香港公司在國內的生產基地,并*在國內全權銷售大同香港公司的產品,歷時多年時間,經(jīng)過幾次技術改進,以生產銷售恒溫設備為核心的上海實貝儀器設備廠以全新的面貌服務于客戶。

  上海實貝儀器設備廠主要產品為: 包括各類電熱恒溫鼓風干燥箱,高低溫試驗箱,電熱恒溫培養(yǎng)箱,真空干燥箱,生化培養(yǎng)箱,低溫恒溫恒濕培養(yǎng)箱,二氧化碳培養(yǎng)箱,恒溫水槽,各類工業(yè)流水線烘道產品等。除了各類標準產品,還承接各類大中型非標干燥箱,試驗箱。產品廣泛應用于航空,航天,軍事,通訊,機械電子,電器,汽車,化工,生物醫(yī)藥,紡織等領域。

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HMDS預處理真空烘箱一、HMDS預處理系統(tǒng)的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝顯得更為重要
PVD-210-HMDS晶片預處理烘箱 產品詳情



HMDS預處理真空烘箱


一、HMDS 預處理系統(tǒng)的必要性:


在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。


二、產品特點:


1)外殼采用優(yōu)質SUS304不銹鋼材質,內膽316L不銹鋼材料;采用不銹鋼加熱管,均勻分布在內膽外壁,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置;采用鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。無發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境使用。


2)箱門閉合松緊能調節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內保持高真空度。


3) 溫度采用微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫,定時,超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩(wěn)定可靠.


4)智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。


5)HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,使真空箱密封性能,確保HMDS氣體無外漏顧慮。


三、技術參數(shù)


規(guī)格型號

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容積(L

90L

210L

控溫范圍

RT+10250

溫度分辨率

0.1

控溫精度

±0.5

加熱方式

內腔體外側加溫

隔板數(shù)量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范圍100100000pa

真空泵

抽氣速度4升/秒,型號DM4

電源/功率

AC220/50Hz,3KW

AC380V/50Hz4KW

內膽尺寸W*D*H

450*450*450

560*640*600

外形尺寸W*D*H

650*640*1250

1220*930*1755


連接管:316不銹鋼波紋管,將真空泵與真空箱密封無縫連接


備注:選配溫度壓力記錄儀時,因工藝需要改變設備整個外箱結構,請參考實物圖。外殼采用優(yōu)質冷軋鋼板粉末靜電噴涂,內膽采用316L不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*Hmm980x655x1600(含下箱柜高700),下箱柜空置。


四、HMDS預處理系統(tǒng)的原理:


HMDS預處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。


五、HMDS預處理系統(tǒng)的一般工作流程:


首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真空度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數(shù)后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應機理如圖:首先加熱到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應,在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應。


六、尾氣排放:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。


七、產品操作控制系統(tǒng)平臺配置:


DM4直聯(lián)旋片式真空泵,溫度控制器,日本三菱可編程觸摸屏操作模塊,固態(tài)繼電器,加急停裝置。


選購件:富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)、三色燈、壓力記錄儀和溫度記錄儀。


其它選配:


1)波紋管2米或3米(標配含1米)


2)富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)


3)三色燈


4)增加HMDS液體瓶


5)下箱柜子(304不銹鋼)適用于外304不銹鋼內316不銹鋼標準款式


6)壓力溫度記錄儀(帶曲線)


 



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