高檔型硅片檢測(cè)顯微鏡 TGB-600詳細(xì)技術(shù)參數(shù)
一、儀器用途
TGB-600 大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、無限遠(yuǎn)長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時(shí)配有偏光裝置，及其高像素的數(shù)碼攝像頭。本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的”金字塔”的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析。雜質(zhì)包括:顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格。是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過程中的檢測(cè)儀器之一。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析。雜質(zhì)包括:顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格。是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過程中的檢測(cè)儀器之一。
二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡
| 類型 | 放大倍數(shù) | 視場(chǎng)(mm) |
| 大視野目鏡 | 10X | Φ22 |
2.物鏡
| 類別 | 放大倍數(shù) | 數(shù)值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
| 明暗場(chǎng)無窮遠(yuǎn)長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡 | 5X | 0.12 | 9.7 |
| 10X | 0.25 | 9.3 | |
| 20X | 0.40 | 7.3 | |
| 50X | 0.70 | 2.5 | |
| 80X | 0.80 | 1.25 |
3.光學(xué)放大倍數(shù)：50X 100X 200X 500X 800X
4.三目鏡30°傾斜，雙目瞳距調(diào)節(jié)范圍：53~75mm
5.五孔轉(zhuǎn)換器
6.調(diào)焦機(jī)構(gòu)：粗微動(dòng)同軸調(diào)焦, 微動(dòng)格值：0.8μm,
粗動(dòng)松緊可調(diào),帶鎖緊和限位裝置
7.載物臺(tái)機(jī)械式尺寸：280mmX270mm；移動(dòng)范圍橫向(X) 204mm，縱向(Y) 204mm
8.偏光裝置起偏振器，可360度旋轉(zhuǎn)，可推拉切換 ；檢偏振器，可推拉切換
9.照明系統(tǒng)12V 50W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)
10.防霉:的防霉系統(tǒng)
11.成像系統(tǒng):高像素的CCD攝像頭
4.三目鏡30°傾斜，雙目瞳距調(diào)節(jié)范圍：53~75mm
5.五孔轉(zhuǎn)換器
6.調(diào)焦機(jī)構(gòu)：粗微動(dòng)同軸調(diào)焦, 微動(dòng)格值：0.8μm,
粗動(dòng)松緊可調(diào),帶鎖緊和限位裝置
7.載物臺(tái)機(jī)械式尺寸：280mmX270mm；移動(dòng)范圍橫向(X) 204mm，縱向(Y) 204mm
8.偏光裝置起偏振器，可360度旋轉(zhuǎn)，可推拉切換 ；檢偏振器，可推拉切換
9.照明系統(tǒng)12V 50W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)
10.防霉:的防霉系統(tǒng)
11.成像系統(tǒng):高像素的CCD攝像頭
三、系統(tǒng)組成
(TGB-600)：1.硅片顯微微 2.適配鏡 3.CCD攝像器 4.A/D圖像采集卡
四、總放大參考倍數(shù)
TGB-600：50--3800倍
五、選購(gòu)件
1.圖像測(cè)量軟件 2.目鏡： 10X(帶刻度) 3.物鏡：40X 60X
