重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導(dǎo)體檢查顯微鏡
重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導(dǎo)體檢查顯微鏡產(chǎn)品功能：
Leading-Edge Analysis Tools
The MX63 series’ versatile observation capabilities provide clear, sharp images so users can reliably detect defects in their samples. New illumination techniques and image acquisition options within OLYMPUS Stream image analysis software give users more choices for evaluating their samples and documenting their findings.
The Invisible Becomes Visible: MIX Observation and acquisition
MIX observation technology produces unique observation images by combining darkfield with another observation method, such as brightfield, fluorescence, or polarization. MIX observation enables users to view defects that are difficult to see with conventional microscopes. The circular LED illuminator used for darkfield observation has a directional darkfield function where only one quadrant is illuminated at a given time. This reduces a sample’s halation and is useful for visualizing a sample’s surface texture.
Structure on semiconductor wafer
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| The IC pattern is unclear. | The wafer color is invisible. | Both the wafer color and IC pattern are clearly represented. |
輕松創(chuàng)建全景圖像：即時(shí)MIA
通過多個(gè)圖像對(duì)齊（MIA），用戶只需在手動(dòng)平臺(tái)上移動(dòng)KY旋鈕即可快速輕松地將圖像拼接在一起 - 無需電動(dòng)載物臺(tái)。OLYMPUS Stream軟件使用模式識(shí)別生成全景圖像，為用戶提供更廣闊的視野。
即時(shí)MIA圖像的硬幣
創(chuàng)建所有焦點(diǎn)圖像：EFI
OLYMPUS Stream中的擴(kuò)展聚焦成像（EFI）功能可捕獲高度超出物鏡焦點(diǎn)深度的樣品圖像，并將它們堆疊在一起以創(chuàng)建一個(gè)全部聚焦的圖像。EFI可以使用手動(dòng)或電動(dòng)Z軸執(zhí)行，并創(chuàng)建高度圖以便于結(jié)構(gòu)可視化。在Stream Desktop中離線時(shí)也可以構(gòu)建EFI圖像。
螺柱在IC芯片上凸起
使用HDR捕獲明亮和黑暗區(qū)域
使用上等圖像處理，高動(dòng)態(tài)范圍（HDR）可調(diào)整圖像內(nèi)亮度的差異，從而減少眩光。HDR改善了數(shù)字圖像的視覺質(zhì)量，從而有助于生成具有專業(yè)外觀的報(bào)告。
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| 有些地方很刺眼。 | HDR明顯暴露出黑暗和明亮的區(qū)域。 | 由于濾色器的亮度，TFT陣列變黑。 | TFT陣列由HDR曝光。 |
從基本測(cè)量到上等分析
測(cè)量對(duì)質(zhì)量和過程控制和檢查至關(guān)重要。考慮到這一點(diǎn)，即使是入門級(jí)的OLYMPUS Stream軟件包也包含一整套交互式測(cè)量功能，所有測(cè)量結(jié)果都保存在圖像文件中以供進(jìn)一步記錄。此外，OLYMPUS Stream Materials Solution為復(fù)雜的圖像分析提供了直觀，面向工作流程的界面。只需單擊一個(gè)按鈕，即可快速準(zhǔn)確地執(zhí)行圖像分析任務(wù)。通過顯著減少重復(fù)任務(wù)的處理時(shí)間，操作員可以專注于手頭的檢查。
基本測(cè)量（印刷電路板上的圖案）
投擲電源解決方案（PCB通孔的橫截面）
自動(dòng)測(cè)量解決方案（晶圓結(jié)構(gòu)）
重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導(dǎo)體檢查顯微鏡產(chǎn)品畫面質(zhì)量：
**的光學(xué)性能：波前像差控制
物鏡的光學(xué)性能直接影響觀察圖像的質(zhì)量和分析結(jié)果。奧林巴斯UIS2高倍率物鏡旨在*大限度地減少波前像差，提供可靠的光學(xué)性能。
壞波鋒
良好的波前（UIS2目標(biāo)）
一致的色溫：高強(qiáng)度白色LED照明
MX63系列采用高強(qiáng)度白光LED光源，用于反射和透射照明。無論強(qiáng)度如何，LED都能保持一致的色溫，從而獲得可靠的圖像質(zhì)量和色彩再現(xiàn)。LED系統(tǒng)提供高效，長(zhǎng)壽命的照明，是材料科學(xué)應(yīng)用的理想選擇
顏色隨光照強(qiáng)度而變化。
顏色與光強(qiáng)度一致，比鹵素更清晰。
*使用自動(dòng)曝光拍攝的所有圖像
**測(cè)量：自動(dòng)校準(zhǔn)
與數(shù)字顯微鏡類似，使用OLYMPUS Stream軟件時(shí)可以進(jìn)行自動(dòng)校準(zhǔn)。自動(dòng)校準(zhǔn)有助于消除校準(zhǔn)過程中的人為變化，從而實(shí)現(xiàn)更可靠的測(cè)量。自動(dòng)校準(zhǔn)使用一種算法，該算法可從多個(gè)測(cè)量點(diǎn)的平均值自動(dòng)計(jì)算正確的校準(zhǔn)。這可以*大限度地減少不同運(yùn)營(yíng)商引入的差異，并保持一致的準(zhǔn)確性，從而提高定期驗(yàn)
清晰的圖像：圖像陰影校正
OLYMPUS Stream軟件具有陰影校正功能，可適應(yīng)圖像角落的陰影。與強(qiáng)度閾值設(shè)置一起使用時(shí)，陰影校正可提供更**的分析。
半導(dǎo)體晶圓（二值化圖像）
右圖：陰影校正可在整個(gè)視野范圍內(nèi)產(chǎn)生均勻照明。
明 Brightfield和darkfield 帶有內(nèi)置離合器驅(qū)動(dòng)器的同軸右手柄：MX-SIC8R 帶有內(nèi)置離合器驅(qū)動(dòng)器的同軸右手柄：MX-SIC6R2
MX63 MX63L 光學(xué)系統(tǒng) UIS2光學(xué)系統(tǒng)（無限遠(yuǎn)校正系統(tǒng)） 顯微鏡框架 反射光照明 白光LED（帶光強(qiáng)度管理器）12 V 100 W鹵素?zé)簦?00瓦汞燈
明場(chǎng)/暗場(chǎng)/鏡子立方體手動(dòng)轉(zhuǎn)換。（鏡面立方體是可選的。）
通過手動(dòng)操作改變3個(gè)位置編碼鏡單元
內(nèi)置電動(dòng)孔徑光闌（每個(gè)物鏡的預(yù)設(shè)置，暗場(chǎng)自動(dòng)全開）
觀察模式：明場(chǎng)，暗場(chǎng)，差分界面對(duì)比度（DIC）* 1，簡(jiǎn)單偏光* 1，熒光* 1，紅外* 1和MIX觀察（4方向暗場(chǎng)）* 2
* 1可選鏡面立方體，* 2需要MIX觀察配置 透射光照明 透射光照明單元：需要MX-TILLA或MX-TILLB。
- MX-TILLA：冷凝器（NA 0.5）和孔徑光闌
- MX-TILLB：聚光器（NA 0.6），孔徑光闌和場(chǎng)
光源光源：LG-PS2（12 V，100 W鹵素?zé)簦┕庠粗改希篖G-SF
觀察模式：明場(chǎng)，簡(jiǎn)單偏光 焦點(diǎn) 行程：32 mm
每轉(zhuǎn)精細(xì)行程：100μm
*小刻度：1μm
上限止動(dòng)器和粗手柄的扭矩調(diào)節(jié) *大載重（包括舞臺(tái)和支架） 8公斤 15公斤 觀察管 寬視場(chǎng)（FN 22 mm） 直立和三目：U-ETR4
直立，傾斜和三目：U-TTR-2
倒置和三目：U-TR30-2，U-TR30IR（用于紅外觀察）
倒置和雙目：U-BI30-2
倒置，傾斜和雙目：U-TBI30 超寬視場(chǎng)（FN 26.5 mm） 直立，傾斜和三目：MX-SWETTR（光路切換100％（目鏡）：0（相機(jī)）或0：100％）
直立，傾斜和三目：U-SWETTR（光路切換100％（目鏡）：0（相機(jī)）或20％：80％）
倒置和三目：U-SWTR-3 電動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)換器
電動(dòng)六倍與滑塊槽，用于DIC：U-D6REMC
電動(dòng)centerable五元組具有用于DIC的滑塊槽：U-P5REMC
電動(dòng)六倍，帶有用于DIC的滑塊插槽：U-D6BDREMC
電動(dòng)五元組，帶有用于DIC的滑塊插槽：U-D5BDREMC
電動(dòng)可中心五元組，帶有用于DIC的滑塊插槽：U-P5BDREMC 階段（X×Y）
行程：210 x 210 mm
透射光照射面積：189 x 189 mm
行程：158 x 158 mm
（僅反射光） 帶有內(nèi)置離合器驅(qū)動(dòng)器的同軸右手柄：MX-SIC1412R2
行程：356 x 305 mm
透射光照射面積：356 x 284 mm 重量 約。35.6kg（顯微鏡框架26kg） 約。44kg（顯微鏡框架28.5kg）
重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導(dǎo)體檢查顯微鏡產(chǎn)品應(yīng)用：
MX63系列用于各種反射光顯微鏡應(yīng)用。這些應(yīng)用程序是系統(tǒng)用于工業(yè)檢查的一些方法的示例。
電極部分的紅外圖像
紅外（IR）用于尋找IC芯片和玻璃上硅制成的其他器件內(nèi)部的缺陷。
電影
（左：明場(chǎng)/右：偏光）
偏振光用于揭示材料的紋理和晶體的狀態(tài)。它適用于檢查晶圓和LCD結(jié)構(gòu)。
硬盤
（左：明場(chǎng)/右：DIC）
差分干涉對(duì)比度（DIC）用于幫助查看具有微小高度差異的樣本。它非常適用于檢查具有非常微小高度差異的樣品，如磁頭，硬盤介質(zhì)和拋光晶圓。
半導(dǎo)體晶圓上的IC圖案
（左：暗場(chǎng)/右：MIX（明場(chǎng)+暗場(chǎng)））
暗場(chǎng)用于檢測(cè)樣品上的微小劃痕或瑕疵，或檢查具有鏡面的樣品，例如晶片。MIX照明使用戶可以查看圖案和顏色。
半導(dǎo)體晶片上的光致抗蝕劑殘留物
（左：熒光/右：MIX（熒光+暗場(chǎng)））
熒光用于使用特殊設(shè)計(jì)的濾光片立方體照射時(shí)發(fā)光的樣品。這用于檢測(cè)污染物和光致抗蝕劑殘留物。MIX照明使得能夠觀察光致抗蝕劑殘留物和IC圖案。
LCD彩色濾光片
（左：透射光/右：MIX（透射光+明場(chǎng)））
該觀察技術(shù)適用于透明樣品，例如LCD，塑料和玻璃材料。MIX照明使得能夠觀察濾光器顏色和電路圖案。
