產(chǎn)品概述：
科研級三目倒置金相顯微鏡XJ-51C采用優(yōu)良的無限遠光學(xué)系統(tǒng)與多功能、模塊化的設(shè)計理念，帶有偏光裝置，并可選配暗場裝置、DIC微分干涉裝置實現(xiàn)暗場和微分干涉等特殊觀察。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學(xué)要求的理想設(shè)計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金屬、巖礦內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織的鑒定和分析，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等。廣泛應(yīng)用在工廠、實驗室和教學(xué)及科學(xué)領(lǐng)域。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)研究的理想儀器?？偡糯蟊稊?shù)：50-800X
◆性能特點：
1、采用了的無限遠光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計，提供了的光學(xué)系統(tǒng)，。
2、整機了采用防霉處理，保護了光學(xué)元件延長了儀器使用壽命。
3、采用大視野目鏡和無限遠長距平場物鏡配置，視場平坦。
4、配置了偏光裝置并可選配暗場、微分干涉裝置，拓展了功能。
5、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應(yīng)用：
1、鑒定和分析金屬內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。2、電子工廠PCB板檢驗。
2、觀察材料表面的某些特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻。
規(guī)格參數(shù)：
科研級三目倒置金相顯微鏡XJ-51C采用優(yōu)良的無限遠光學(xué)系統(tǒng)與多功能、模塊化的設(shè)計理念，帶有偏光裝置，并可選配暗場裝置、DIC微分干涉裝置實現(xiàn)暗場和微分干涉等特殊觀察。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學(xué)要求的理想設(shè)計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金屬、巖礦內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織的鑒定和分析，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等。廣泛應(yīng)用在工廠、實驗室和教學(xué)及科學(xué)領(lǐng)域。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)研究的理想儀器?？偡糯蟊稊?shù)：50-800X
◆性能特點：
1、采用了的無限遠光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計，提供了的光學(xué)系統(tǒng)，。
2、整機了采用防霉處理，保護了光學(xué)元件延長了儀器使用壽命。
3、采用大視野目鏡和無限遠長距平場物鏡配置，視場平坦。
4、配置了偏光裝置并可選配暗場、微分干涉裝置，拓展了功能。
5、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應(yīng)用：
1、鑒定和分析金屬內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。2、電子工廠PCB板檢驗。
2、觀察材料表面的某些特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻。
規(guī)格參數(shù)：
一、顯微鏡參數(shù)：
| 序號 | 名稱 | 技術(shù)參數(shù) |
| 01 | 平場目鏡 | WF10X/Φ22mm |
| 02 | 無限遠平場物鏡 | PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、40X/0.65、80X/0.80 |
| 03 | 總放大倍數(shù) | 50X-800X |
| 04 | 觀察頭 | 雙目，鉸鏈式45°傾斜 |
| 05 | 轉(zhuǎn)換器 | 五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) |
| 06 | 粗微調(diào)調(diào)焦范圍 | 粗微動同軸調(diào)焦,帶鎖緊裝置,微動格值:2μm |
| 07 | 載物臺 | 機械移動載物臺，242mmX200mm，移動范圍30mmX30mm、通光口徑小于Ф12mm |
| 08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
| 09 | 濾色片 | 磨砂玻璃，黃、綠、藍濾色片 |
| 10 | 照明 | 鹵鎢燈泡 6V30W亮度可調(diào) 內(nèi)置視場光闌、孔徑光闌 |
| 11 | 偏光裝置 | 拉板式起偏器，檢偏器 |
| 12 | 儀器重量 | 凈重7.0kg 毛重8.5kg |
| 13 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸18X25X33（cm） 包裝尺寸42X35X52(cm) |
二、目鏡參數(shù)：
| 型號 T ype | 放大倍率 Magnification | 視場直徑(mm) F.O.V | 外徑(mm) Tube diameter |
| WF10X/22 | 10X | Φ22 | Φ30.0 |
三、物鏡參數(shù)：
| 放大倍率 Magnification | 數(shù)值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
| 5X | 0.12 | 2.55 | 26.1 | ∞ | 45 | 無 |
| 10X | 0.25 | 1.10 | 20.2 | ∞ | 45 | 無 |
| 20X | 0.40 | 0.70 | 8.80 | ∞ | 45 | 無 |
| 40X | 0.60 | 0.55 | 3.98 | ∞ | 45 | 無 |
| 80X | 0.80 | 0.42 | 1.25 | ∞ | 45 | 無 |
可選購件
一、顯微鏡選購件：
| 序號 | 名稱 | 技術(shù)參數(shù) |
| 01 | 測微目鏡 | 10X(Φ22mm) |
| 02 | 物鏡 | PLL60X、100X（干式） |
| 03 | 物鏡測微尺 | 0.01mm |
| 04 | 暗場裝置 | 明/暗場物鏡5X、10X、20X、40X、50X、60X、80X、100X |
| 05 | DIC微分干涉裝置 | 微分干涉相襯插板 |
二、攝像系統(tǒng)選購：
| 序號 | 名稱 | 參數(shù)及功能 |
| 01 | CMOS數(shù)字攝像頭 | 300萬、500萬、900萬、1000萬、1400萬、1600萬、2000萬（具有單張、定時采集圖像、錄像、顯示比例尺、測量、圖像拼接，融合等功能，并可以連接多媒體、打印、等多種輸出方式。） |
| 02 | CCD數(shù)字攝像頭 | 300萬、500萬（具有單張、定時采集圖像、錄像、顯示比例尺、測量、圖像拼接，融合等功能，并可以連接多媒體、打印、等多種輸出方式。） |
三、分析軟件選購：
| 序號 | 名稱 | 參數(shù)及功能 |
| 01 | 基本測量軟件UV | 可單張、定時、連續(xù)采集；可顯示標尺、放大倍數(shù)；可對顯微圖像進行長度、角度、半徑、周長、面積等多種測量；可以連接多媒體、打印、等多種方式輸出。 |
| 02 | 金相分析軟件UV-MA | 包含多達400項左右符合GB、YB、JB、ASTM等標準自動評級項目，具有對金相圖像進行自動評級、圖譜比對、定標測量、定倍打印、查看圖譜、輸出報表和圖像融合等多種功能。 |
| 03 | 礦相分析軟件UV-K | 通過對顯微圖像的優(yōu)化著色處理及測量來對礦相進行定量分析?？蓡螐垺⑦B續(xù)采集；可顯示標尺；可對顯微圖像進行長度、角度、半徑、周長、面積等多種測量；可以連接多媒體、打印、等多種方式輸出。 |
| 04 | 粒度軟件UV-G | 包含所有基本測量功能，提取并計算不同顏色圖像所占面積比例，可對視場內(nèi)顆粒自動測量分析，并可按顆粒的粒徑、面積、形狀等多類參數(shù)以線性或非線性統(tǒng)計方式輸出分布圖和積分分布圖，也可以得出D10、D50、D90等常用統(tǒng)計數(shù)據(jù)?？梢赃B接多媒體、打印、等多種方式輸出。 |
裝箱清單
| 序號 | 名稱 | 主要技術(shù)參數(shù) | 單位 | 數(shù)量 |
| 1 | 顯微鏡機架 | 臺 | 1 | |
| 2 | 雙目鏡筒 | 只 | 1 | |
| 3 | 無限遠平場物鏡 | PLL 5X、10X、20X、40X、80X | 只 | 各1 |
| 4 | 平場目鏡 | 10X | 對 | 1 |
| 5 | 載物臺壓簧 | 件 | 1 | |
| 6 | 載物片 | 片 | 1 | |
| 7 | 濾色片 | 藍、綠、黃、磨砂 | 片 | 各1 |
| 8 | 攝像接口 | 只 | 1 | |
| 9 | 備用鹵鎢燈 | 6V/30W | 只 | 1 |
| 10 | 防塵罩 | 個 | 1 | |
| 11 | 電源線 | 根 | 1 | |
| 12 | 產(chǎn)品說明書 | 本 | 1 | |
| 13 | 產(chǎn)品裝箱單 | 份 | 1 | |
| 14 | 產(chǎn)品合格證 | 份 | 1 | |
| 15 | 產(chǎn)品保修卡 | 份 | 1 |
