光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2
光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2是通過激光散射方式對(duì)曝光工藝中光掩模上的細(xì)小顆粒進(jìn)行檢測(cè)的裝置??蓹z測(cè)光掩模圖案面(Pattern Surface)上的zui小粒徑為0.35μm。并且通過線&空間1.0?1.5μm的圖案識(shí)別功能,可以把檢測(cè)誤差抑制在zui低限度。
光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2特征
- 0.35μm的檢測(cè)靈敏度,90%的檢測(cè)率。
- 操作靈活的菜單便于使用。
- zui多可直接從多級(jí)分類器內(nèi)的光掩模盒中裝載10片光掩模。
- 可直接觀察玻璃(Glass)面和圖案(Pattern)面。
- 便利的數(shù)據(jù)管理便于制做報(bào)告。
- 新信號(hào)處理方式有利于減少檢測(cè)錯(cuò)誤。
- 使用環(huán)境,圖案表面上的污染物的zui小可測(cè)粒徑為0.35μm。
通過光掩模寬度1.5μm、線間1.5μm的圖案判別功能,可以把檢測(cè)誤差抑制在zui小限度內(nèi)。
光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2應(yīng)用
在下列工藝中,可以用于細(xì)微異物的檢測(cè)中。
光掩模制造工藝
1)光掩模坯件上的異物檢測(cè)
2)EB中描畫?清洗后的圖案/玻璃面的異物檢測(cè)
3)表膜粘貼后的圖案/玻璃/表膜各面的異物檢測(cè)
4)粘貼前表膜單體的異物檢測(cè)(可選件功能)
曝光工藝
1)光掩模的接收檢査(入庫檢查)
2)曝光前的光掩模例行程序的異物檢測(cè)(工藝管理)
3)光掩模的定期異物檢測(cè)(工藝管理)
優(yōu)點(diǎn)
在圖案面,0.35μm的異物檢測(cè)靈敏度
高速過量地檢測(cè)圖案/玻璃/表膜各面
帶有上下面異物觀察功能(觀察倍率多級(jí)切換)
可應(yīng)用于各種縮小投影型曝光裝置盒(適用于多級(jí)曝光裝置盒:zui大可達(dá)到10級(jí))
各種各樣的檢査條件設(shè)定功能和簡(jiǎn)便的檢測(cè)操作
內(nèi)置數(shù)據(jù)管理功能,可以輸出各種各樣的報(bào)告。
支持GEM通信功能(顧客要求的功能 可選件)
高可靠性、低運(yùn)營成本