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摘要我國半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模龐大,根據(jù)工信部公布數(shù)據(jù)顯示,2023年,我國集成電路產(chǎn)量為3514億塊,同比增長6.9%。光刻是半導體芯片最關鍵的工藝環(huán)節(jié),光刻機不可或缺。

  【儀表網(wǎng) 市場行情】碳化硅陶瓷真空吸盤是新一代高性能真空吸盤之一,可以廣泛應用在礦山、冶金、化工、制藥、玻璃陶瓷、光伏、光學儀器、電子、半導體等領域,能夠滿足礦山等行業(yè)的抗磨損需求,冶金等行業(yè)的高溫需求,化工等行業(yè)的抗腐蝕需求,以及半導體、電子等行業(yè)的精密加工與裝配需求。
 
  真空吸盤是一種重要的吸附工具,可以應用在固定、搬運、裝配等場景。傳統(tǒng)真空吸盤的耐磨損性、耐高溫性、耐腐蝕性存在一定局限,金屬吸盤還存在不防靜電的缺點,在部分領域應用受到限制。
 
  根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2024-2029年中國碳化硅陶瓷真空吸盤行業(yè)細分市場需求及開拓機會研究報告》顯示,碳化硅陶瓷具有密度小、硬度大、抗彎強度高、耐磨損、摩擦系數(shù)低、熱膨脹系數(shù)低、高溫強度大、導熱系數(shù)高、高溫抗氧化、耐腐蝕、絕緣等優(yōu)點,是一種綜合性能優(yōu)異的先進陶瓷材料,可用來制造適合苛刻環(huán)境下使用的真空吸盤。
 
  碳化硅陶瓷真空吸盤采用多孔陶瓷,是碳化硅高溫燒蝕得到的多孔且孔徑均勻的陶瓷材料,經(jīng)研磨拋光后表面質(zhì)量高,可以應用在半導體領域,用于硅晶圓、藍寶石晶圓、砷化鎵晶圓等制造領域,使用時給予負壓,將晶圓穩(wěn)固吸附于真空吸盤上,作為加持、承載工具,實現(xiàn)減薄、切割、清洗等操作。
 
  碳化硅陶瓷真空吸盤的孔洞直徑細小,不會對晶圓表面造成劃傷;碳化硅陶瓷具有電阻率高、絕緣性好的特點,制造真空吸盤可防止靜電損壞晶圓;碳化硅陶瓷真空吸盤結構致密、強度大、耐磨損,不易產(chǎn)生破裂、碎片等問題;碳化硅陶瓷不易變形,真空吸盤可重復使用,使用壽命長。
 
  根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2024-2029年中國光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤行業(yè)市場深度調(diào)研及發(fā)展前景預測報告》顯示,光刻機零部件中包括多種陶瓷部件,例如工件臺、方鏡、真空吸盤、水冷盤等。碳化硅陶瓷可經(jīng)過精密加工用來制造這些陶瓷部件,成為理想選擇材料之一。但燒結結構致密、大尺寸的碳化硅陶瓷難度較高,并且碳化硅陶瓷硬度大、脆性大,精密加工難度大,因此光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤僅有日本京瓷Kyocera、美國CoorsTek等少數(shù)企業(yè)可以生產(chǎn)。
 
  我國半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模龐大,根據(jù)工信部公布數(shù)據(jù)顯示,2023年,我國集成電路產(chǎn)量為3514億塊,同比增長6.9%。光刻是半導體芯片最關鍵的工藝環(huán)節(jié),光刻機不可或缺。在國際政治形勢多變背景下,為避免被卡脖子,我國光刻機自主研發(fā)生產(chǎn)步伐正在加速,光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤開發(fā)應用潛力大。
 
  新思界行業(yè)分析人士表示,我國最新版《產(chǎn)業(yè)結構調(diào)整指導目錄(2024年本)》中,將面向新一代光刻機用碳化硅陶瓷水冷真空吸盤(浸沒式)制備關鍵技術研發(fā)與應用列為鼓勵類項目??偟膩砜?,我國碳化硅陶瓷真空吸盤行業(yè)發(fā)展前景良好,特別是應用在光刻機領域的高端產(chǎn)品發(fā)展前景廣闊。目前,我國光刻機用碳化硅陶瓷真空吸盤研發(fā)生產(chǎn)商主要有中國建筑材料科學研究總院、寧波伏爾肯科技股份有限公司等。

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