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摘要總預(yù)算1860萬元,采購液壓伺服疲勞試驗機、透射電子顯微鏡、高效型場發(fā)射掃描電鏡采購項目、超小尺度高分辨分析掃描電鏡、高精度無心外圓磨床等5套儀器設(shè)備。

  【儀表網(wǎng) 儀表產(chǎn)業(yè)】4月13日,中國科學(xué)院金屬研究所發(fā)布了五則儀器設(shè)備公開招標(biāo)公告,總預(yù)算1860萬元,采購液壓伺服疲勞試驗機、透射電子顯微鏡、高效型場發(fā)射掃描電鏡采購項目、超小尺度高分辨分析掃描電鏡、高精度無心外圓磨床等5套儀器設(shè)備。詳情如下:

項目編號

采購項目

數(shù)量

預(yù)算金額(萬元)

簡要技術(shù)要求

21CNIC-031692-012

高精度無心外圓磨床

1套

170

于套圈及軸類外圓表面的通過式磨削加工。

*砂、導(dǎo)輪均為雙支承滾動結(jié)構(gòu)。砂輪主軸配置內(nèi)裝式動平衡。

*設(shè)備應(yīng)具備七根伺服軸:第一根供砂輪架的進(jìn)給;第二根供導(dǎo)輪架的進(jìn)給;第三根為砂輪修整器的進(jìn)給,可實現(xiàn)跟蹤補償,第四根軸為砂輪修整器往復(fù),可實現(xiàn)差補修整,第五軸為導(dǎo)輪修整器的進(jìn)給,第六根為導(dǎo)輪修整器往復(fù),第七根為導(dǎo)輪主軸回轉(zhuǎn)驅(qū)動。另外,機床前后都能控制導(dǎo)輪架進(jìn)給、后退,對產(chǎn)品尺寸離散性進(jìn)行便捷控制,并可以實施點動補償。砂輪進(jìn)給配合光柵尺實現(xiàn)閉環(huán)控制,確保進(jìn)給尺寸穩(wěn)定、可靠。

21CNIC-031692-010

液壓伺服疲勞試驗機

1套

140

該設(shè)備主要用于室溫和高溫條件下金屬材料在正弦波、三角波、方波、梯形波等循環(huán)應(yīng)力下的高低周疲勞性能,并能完成基本靜態(tài)力學(xué)性能測試以及裂紋拓展、K1C、J1C、斷裂韌性等斷裂力學(xué)試驗,有條件模擬實際工況試驗。

*框架采用落地式雙立柱設(shè)計,立柱直徑不小于75mm,立柱間距不小于530mm,不含夾具時的最大垂直測試空間不小于1250mm,并且可以通過液壓提升十字橫梁方便調(diào)節(jié)測試空間。

*液壓作動器直接整合于鋼制橫梁內(nèi),構(gòu)成一體化的作動器梁,具備高度軸向、側(cè)向剛度及卓越可靠的框架,提供作動器圖示。

21CNIC-031692-009

透射電子顯微鏡

1套

360

本系統(tǒng)主要用于材料的高分辨形貌觀察和微區(qū)的晶體結(jié)構(gòu)、成分分析,系統(tǒng)由電子光學(xué)系統(tǒng)、高壓系統(tǒng)、真空系統(tǒng)等部分組成。

*點分辨率:0.23nm

*線分辨率:0.14nm

*加速電壓: 200kV

21CNIC-031692-008

高效型場發(fā)射掃描電鏡采購項目

1套

500

本采購設(shè)備具體功能包括:高分辨率成像觀察,快速獲取樣品表面微觀結(jié)構(gòu)形貌信息、成分襯度信息,可以在低電壓條件下無需鍍膜直接高分辨觀察樣品。搭載X射線能譜儀附件,可同時對樣品表面微觀區(qū)域內(nèi)的元素成分進(jìn)行定性和定量分析;搭載高速高靈敏高分辨EBSD附件,能夠?qū)w材料進(jìn)行空間分辨率亞微米級的電子背散射衍射,能夠給出結(jié)晶學(xué)數(shù)據(jù)。

*EBSD在線解析標(biāo)定速度不低于4500pps(花樣分辨率156*88);電子圖像分辨率≥8192*8192,EBSD面分布圖分辨率≥4096*4096,最佳取向精度≤0.05度;

* 配外界磁場消除干擾器,X,Y,Z 矩形坐標(biāo)方式偵測器及線圈配備以消除外界的磁場干擾設(shè)備,工作范圍:DC ~5000Hz , 效能:【>400 X at DC】【> 100 X at 50/60 Hz】,反應(yīng)時間<100微秒;能觸屏顯示與操作,能穩(wěn)定滿足電鏡對環(huán)境磁場的要求。

21CNIC-031692-007

超小尺度高分辨分析掃描電鏡

1套

690

超高分辨率場發(fā)射掃描電鏡同時具備常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的所有功能,可以通過配備能譜儀、EBSD、原位外場系統(tǒng)等對材料進(jìn)行成分、結(jié)構(gòu)以及外場下組織分析。主要為材料相關(guān)學(xué)科的科研工作服務(wù),同時兼顧其它相關(guān)學(xué)科的需求。

* 能譜探測器:要求信號透過率高,噪音低,主體為CMOS型前置放大器內(nèi)置芯片結(jié)構(gòu);晶體有效活區(qū)面積≥65mm2,探測器窗口厚度≤100nm,堅固耐用,耐高壓高溫、耐酸堿腐蝕,可等離子直接清洗。

EBSD相機:高速高靈敏CMOS相機,像素分辨率: 640 (H) x 480 (V),在線解析標(biāo)定速度不低于4500點/秒,以Ni為標(biāo)樣,保證 99%的標(biāo)定成功率,在100pA的低束流條件下低電壓條件下能正常工作,并配有FSD前置背散射探頭;

 
  獲取招標(biāo)文件
 
  時間:2021年04月13日 至 2021年04月20日,每天上午9:30至11:30,下午13:30至16:30。(北京時間,法定節(jié)假日除外)
 
  地點:北京市西城區(qū)西直門外大街6號中儀大廈416
 
  方式:電話聯(lián)系購買
 
  售價:¥800.0 元,本公告包含的招標(biāo)文件售價總和
 
  提交投標(biāo)文件截止時間、開標(biāo)時間和地點
 
  提交投標(biāo)文件截止時間:2021年05月08日 09點30分(北京時間)
 
  開標(biāo)時間:2021年05月08日 09點30分(北京時間)
 
  地點:北京市西城區(qū)西直門外大街6號中儀大廈416會議室

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