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X4CrNi13-4化學成分-合金制造

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所  在  地上海市

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更新時間:2021-02-02 19:36:51瀏覽次數:531次

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產地 進口 加工定制
X4CrNi13-4化學成分
不銹鋼的綜合性能較好,既有足夠的強度,又有*的塑性同時硬度也不高,這也是它們被廣泛采用的原因之一。不銹鋼同絕大多數的其它金屬材料相似,其抗拉強度、屈服強度和硬度,隨著溫度的降低而提高;塑性則隨著溫度降低而減小。不銹鋼更重要的是:隨著溫度的降低,其沖擊韌度減少緩慢,并不存在脆性轉變溫度。所以不銹鋼在低溫時能保持足夠的塑性和韌性。

X4CrNi13-4化學成分

上海隆繼位于中國上海市。自2009年成立以來,憑借國內豐富的產品資源和市場對鋼鐵的巨大需求,上海隆繼已遍布歐洲,美洲,東南亞,中東,南美,非洲等許多國家,隆繼憑借其的鋼鐵產品出口贏得了的聲譽。
上海隆繼是國內的不銹鋼出口商,因為我們可以提供全面,優(yōu)質的不同等級和標準的不銹鋼。例如:ASTM AISI SUS標準中的201 202 304 304L L 321 316 403 430。
隆繼之所以如此受客戶歡迎的重要原因之一就是我們豐富的資源和雄厚的行業(yè)實力。我們每個月都有超過2000噸的不銹鋼庫存,因此可以滿足客戶的各種要求。在服務方面,我們的服務是“一站式”的工作作風。我們擁有自己的加工廠,可以為客戶提供拉絲,磨鏡,切割,滾花等服務。
我們真誠對待每一位客戶,并期待我們的合作。

X4CrNi13-4

德國料號:1.4313
德國牌號:X4CrNi13-4 /X3CrNiMo13-4
化學成分:
C:max. 0,05
Si:max. 0,60
Mn:max. 1,00
P:max. 0,035
S:max. 0,015
Cr:18,20 - 20,80
N:min. 0,02
Ni:9,20 - 10,80

X4CrNi13-4化學成分
X4CrNi13-4不銹鋼表面離子滲氮(碳)技術
X4CrNi13-4不銹鋼應用范圍十分廣泛。面對當前資源嚴重短缺的現狀,采用各種強化措施來改善已開發(fā)X4CrNi13-4不銹鋼鋼種的性能,進一步發(fā)揮各種X4CrNi13-4不銹鋼的優(yōu)勢,拓展其應用范圍,是一項迫切而意義深遠的工作。X4CrNi13-4表面改性處理是低成本而有效提高材料表面硬度、耐磨性和性能的重要方法。
X4CrNi13-4由于不銹鋼表面氧化膜的存在,使一般的氣體滲氮很難進行。雖然表面活化處理后的X4CrNi13-4不銹鋼可以進體滲氮處理,但是工序復雜,不易控制,所以人們逐漸采用了一些新的滲氮工藝技術。離子滲氮技術就是其中應用的一種。常規(guī)離子滲氮是在 500~560℃溫度下的N2和H2或NH3混合氣氛中進行的。由于離子滲氮能直接去除X4CrNi13-4不銹鋼表面的鈍化膜,并易于實現局部滲氮和較容易控制氮勢,在X4CrNi13-4不銹鋼表面強化方面顯示出較大*性。對一些馬氏體不銹鋼進行離子滲氮的結果表明,離子滲氮可有效地在不銹鋼表面形成一定厚度的滲氮層,而不需要進行去除氧化膜的預處理。滲氮后的X4CrNi13-4不銹鋼硬度和耐磨性均有顯著提高。但是常規(guī)的離子滲氮容易在X4CrNi13-4不銹鋼表面形成CrN而使基體出現貧鉻,進而降低不銹鋼的耐蝕性。所以,盡管經離子滲氮處理后X4CrNi13-4不銹鋼的表面硬度、耐磨性和抗擦傷、抗膠合能力有大幅度提高,但若處理不當,容易發(fā)生表層剝落、硬化層(滲氮層) 厚度不均勻以及耐腐蝕性大幅下降等質量問題。
X4CrNi13-4為了避免高溫下形成CrN,損害不銹鋼固有的耐蝕性,必須發(fā)展低溫處理方法。上世紀80年代研發(fā)了等離子體低溫滲氮研究,很好地解決了奧氏體不銹鋼經處理后耐蝕性降低的技術難題。該技術的關鍵是在低溫下(350~450℃) 進行,以避免形成CrN而使基體貧鉻后耐蝕性下降。
X4CrNi13-4盡管低溫滲氮技術克服了滲氮后不銹鋼耐蝕性下降的問題,但離子滲氮也有其本身的缺點,如邊界效應、空心陰效應,以及工件溫度不均等。為了克服離子滲氮的缺點,人們開發(fā)了活化屏離子滲氮技術。在活化屏滲氮技術中,工件處于懸浮狀態(tài),離子轟擊金屬屏而不是工件本身。與常規(guī)離子滲氮相比,該技術可以處理不同形狀的工件,并能消除邊緣效應以及空心陰效應,還能方便地測量工件的溫度。對AISI 420馬氏體不銹鋼的活化屏滲氮行為的研究表明,新工藝不僅消除了邊界效應,而且具有更高的滲氮效率,同時還可以*消除由邊界效應引起的腐蝕環(huán)。
與滲氮相似,對X4CrNi13-4不銹鋼進行滲碳處理也可分為氣體滲碳和離子滲碳兩大類型。傳統(tǒng)氣體滲碳溫度很高,一般在800~1000℃,所以對X4CrNi13-4不銹鋼很少使用,主要采用低溫離子滲碳技術。低溫離子滲碳處理通常在550℃以下進行,所用氣體為H2和CH4或C2H2的混合氣體。

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