淮安旭能水處理設(shè)備有限公司
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更新時間:2024-12-16 13:32:47瀏覽次數(shù):45次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)旭能水處理純水設(shè)備采用進(jìn)口反滲透膜 脫鹽率工,使用壽命長,運(yùn)行成本低,產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定,
在線監(jiān)測控制,實(shí)施監(jiān)測水質(zhì)變化,保障水質(zhì)安全,
全自動電控程序,還可選配觸摸屏操作,使用方便,操作簡單,安全
運(yùn)行費(fèi)用及運(yùn)行成本低,全自動運(yùn)行,實(shí)施無人化管理操作。
高純度:幾乎不含任何雜質(zhì),如離子、有機(jī)物、微生物、顆粒物質(zhì)等,以防止這些雜質(zhì)對微電子器件的性能和可靠性產(chǎn)生不良影響。例如,水中的金屬離子可能會擴(kuò)散到半導(dǎo)體材料中,改變其電學(xué)性能,導(dǎo)致器件性能下降
低電阻率:電阻率是衡量水純度的一個重要指標(biāo),微電子生產(chǎn)用水的電阻率通常要求在 18 MΩ?cm 以上,甚至更高,以確保水的導(dǎo)電性極低,避免在生產(chǎn)過程中發(fā)生電化學(xué)腐蝕等問題.
無菌無顆粒:微生物和顆粒物質(zhì)可能會附著在微電子器件表面,影響其性能和成品率,因此生產(chǎn)用水必須經(jīng)過嚴(yán)格的除菌和過濾處理,達(dá)到無菌且無顆粒的要求。
預(yù)處理:通常包括砂濾、活性炭過濾、軟化等步驟,用于去除水中的大顆粒雜質(zhì)、有機(jī)物、硬度離子等,為后續(xù)的深度處理提供基礎(chǔ)。
反滲透:利用半透膜的原理,在壓力作用下,使水通過半透膜而鹽分等雜質(zhì)被截留,從而達(dá)到除鹽和去除小分子有機(jī)物的目的,是制備超純水的關(guān)鍵步驟之一
離子交換:通過離子交換樹脂與水中的離子進(jìn)行交換反應(yīng),進(jìn)一步去除水中的殘余離子,提高水的純度,可以使水的電阻率大幅提高.
電去離子:結(jié)合了離子交換和電場作用,能夠連續(xù)地去除水中的離子,生產(chǎn)出高純度的超純水,是超純水制備系統(tǒng)中的精處理單元,可確保出水水質(zhì)穩(wěn)定達(dá)到微電子生產(chǎn)的要求
超濾:采用超濾膜對水進(jìn)行過濾,可有效去除水中的大分子有機(jī)物、膠體、細(xì)菌等雜質(zhì),作為預(yù)處理或后處理步驟,有助于提高超純水的質(zhì)量和穩(wěn)定性
硅片清洗:在微電子制造過程中,硅片需要經(jīng)過多次清洗,以去除表面的雜質(zhì)、顆粒和光刻膠等污染物,超純水用于沖洗硅片,確保其表面清潔,為后續(xù)的工藝步驟提供良好的基礎(chǔ).
化學(xué)蝕刻:在蝕刻工藝中,超純水作為蝕刻液的稀釋劑和沖洗液,用于控制蝕刻反應(yīng)的速率和精度,保證蝕刻圖案的準(zhǔn)確性和一致性,同時防止雜質(zhì)對蝕刻效果的影響。
光刻:光刻過程中,超純水用于清洗光刻設(shè)備和光刻膠,以及作為光刻膠的顯影液和定影液的稀釋劑,確保光刻工藝的精度和穩(wěn)定性,提高光刻圖形的分辨率和質(zhì)量。
電子化學(xué)品配制:微電子生產(chǎn)中使用的各種電子化學(xué)品,如化學(xué)鍍液、電鍍液、腐蝕液等,通常需要用超純水進(jìn)行配制,以保證電子化學(xué)品的純度和性能,從而確保微電子器件的質(zhì)量和可靠性。
純水設(shè)備:如反滲透純水設(shè)備、離子交換純水設(shè)備、EDI 超純水設(shè)備等,這些設(shè)備通常由預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、離子交換系統(tǒng)、EDI 系統(tǒng)等組成,能夠根據(jù)不同的水質(zhì)要求和生產(chǎn)規(guī)模,生產(chǎn)出符合微電子生產(chǎn)用水標(biāo)準(zhǔn)的超純水.
過濾設(shè)備:包括砂濾器、活性炭過濾器、精密過濾器、超濾器等,用于去除水中的不同粒徑的雜質(zhì)和污染物,保護(hù)后續(xù)的純水設(shè)備和生產(chǎn)工藝不受雜質(zhì)的影響.
監(jiān)測儀器:為了確保生產(chǎn)用水的質(zhì)量,需要配備各種水質(zhì)監(jiān)測儀器,如電阻率儀、電導(dǎo)率儀、顆粒計數(shù)器、微生物檢測儀等,對水的電阻率、電導(dǎo)率、顆粒數(shù)量、微生物含量等指標(biāo)進(jìn)行實(shí)時監(jiān)測和控制,以便及時發(fā)現(xiàn)水質(zhì)問題并采取相應(yīng)的措施.
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