電子級硫酸又稱高純硫酸、超純硫酸，屬于超凈高純試劑，是一種微電子技術(shù)發(fā)展過程中*的關(guān)鍵基礎(chǔ)化學(xué)試劑，主要用于硅晶片的清洗和蝕刻，可有效除去晶片上的雜質(zhì)顆粒、無機殘留物和碳沉積物。電子級硫酸的純度和潔凈度對電子元件的成品率、電性能及可靠性有著重要的影響。

從純度上來講，電子級和分析純的化學(xué)品，相對于普通化學(xué)品，其純度都很高，雜質(zhì)含量少，但是兩個屬于不同的標(biāo)準(zhǔn)體系，對雜質(zhì)的關(guān)注點不一樣。 電子級是對用于電子元器件生產(chǎn)過程中使用的化學(xué)品的一種泛指，相對于一般工業(yè)，其純度要求更高，尤其是平板顯示行業(yè)或者半導(dǎo)體行業(yè)。其更每種化學(xué)品更中的有害雜質(zhì)含量，金屬離子，固體顆粒等等。用于半導(dǎo)體工業(yè)的電子級化學(xué)品純度一般比分析純的化學(xué)試劑更高，可參考SEMI相關(guān)化學(xué)品的標(biāo)準(zhǔn)。對于芯片生產(chǎn)過程來說，一般情況下，純度會在99.999%數(shù)量級，12寸芯片生產(chǎn)可能會用到99.999999999%純度的化學(xué)品。 分析純是化學(xué)試劑的一個純度標(biāo)準(zhǔn)，這個系列里包括 優(yōu)級純，分析純，化學(xué)純和實驗純。其中分析純干擾雜質(zhì)很少，適用于工業(yè)分析及化學(xué)實驗，比如用于滴定之類的分析。

在復(fù)雜的芯片生產(chǎn)工藝中，硫酸也是*的試劑。

硅圓片在加工過程中，常常會被不同的雜質(zhì)所沾污，硅圓片上不溶性固體顆?；蚪饘匐x子可能在微細(xì)電路之間導(dǎo)電，使之短路。鈉、鈣等堿金屬雜質(zhì)也會融進氧化膜中，導(dǎo)致耐絕緣電壓下降。硼、磷、砷等雜質(zhì)離子會影響擴散劑的擴散效果，塵埃顆粒會造成光刻缺陷，氧化層不平整，影響制版質(zhì)量和等離子蝕刻工藝。

為了獲得高質(zhì)量集成電路芯片，必須除去各種沾污物，這就需要使用非常純凈的化學(xué)試劑來清洗硅圓片。硫酸和過氧化氫可以按比例組成有強氧化性的SPM清洗液，將有機物氧化成CO2和H2O。它還可用于光刻過程中的濕法蝕刻去膠，借助于化學(xué)反應(yīng)從硅圓片的表面除去固體物質(zhì)，導(dǎo)致固體表面全部或局部溶解。

硫酸在此處的作用是消除晶圓上的各種雜質(zhì)，那么其本身就肯定不能做為污染源再引入雜質(zhì)，因此該工藝對于硫酸本身純凈度的要求也相當(dāng)高。1975年，美國的半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）首先為微電子工業(yè)配套的電子級化學(xué)品制定了統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)（SEMI標(biāo)準(zhǔn)）；1978年，德國的默克公司也制定了MOS標(biāo)準(zhǔn)。兩種標(biāo)準(zhǔn)對電子級化學(xué)品中金屬雜質(zhì)和微粒（塵埃）的要求各有側(cè)重，分別適用于不同級別IC的制作要求。

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E-Scan系列電子級硫酸濃度在線分析儀可以安裝在不同管徑的管道或者罐體容器壁上，進行濃度監(jiān)測和控制，可以直接顯示質(zhì)量*（Percent)、固形物含量(S.G.)、密度(T.T.A)或用戶自定義的單位，現(xiàn)場顯示并可以模擬信號（RS232)遠(yuǎn)傳至電腦進行即時數(shù)據(jù)存儲、打印、追溯等功能；通過4-20ma信號遠(yuǎn)傳至plc/dcs /變頻器進行監(jiān)控或控制。

E-Scan系列電子級硫酸在線分析儀擁有以下特征：
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