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多靶磁控濺射鍍 多層功能膜鍍膜機

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號HG18-JJC

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

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更新時間:2016-10-23 22:21:16瀏覽次數(shù):381次

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HG18-JJC多靶磁控濺射鍍

產(chǎn)品名稱:多靶磁控濺射鍍 多層功能膜鍍膜機
產(chǎn)品型號: HG18-JJC
產(chǎn)品編號: 28319

多靶磁控濺射鍍 多層功能膜鍍膜機  的詳細(xì)介紹

該鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層功能膜-各種硬質(zhì)膜、光學(xué)膜、
金屬膜、鐵磁薄膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機為前開門式設(shè)計,功能強、鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定、重復(fù)性好、操作簡便。真空室材料均采用
優(yōu)良材質(zhì)SUS304 不銹鋼材料制造,工藝規(guī)范、精致,保證了材料的成膜純度。
采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組,具有抽速快、無油、操作方便快捷、易于維護的特點。
◆ 鍍膜方式:可實現(xiàn)多靶共濺模式
◆ 磁控靶:圓柱/平面靶;
◆ 進氣系統(tǒng):三路質(zhì)量流量計;
◆ 鍍膜室體積:500mmX500mmX600mm;
◆ 極限真空度:6.7X10-5 Pa,恢復(fù)真空:從大氣抽至6.7X10-4 Pa (40分鐘);
◆ 真空抽氣系統(tǒng):機械泵與分子泵組成;
◆ 真空測量系統(tǒng):數(shù)顯復(fù)合真空計;
◆ 工作電源:直流電源500W;射頻電源500W(13.56MHz);加熱控溫電源;
◆ 工件烘烤溫度:室溫~800℃可控可調(diào)(PID控溫);
◆ 選配件:石英晶振測厚儀、冷卻水機組等;
◆ 供電電源:三相AC380V,50Hz。
◆ 特殊規(guī)格可定制。

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