設備清洗
設備長時間運行后，反應器中的沉淀物會增加，影響設備產(chǎn)率，應定期進行清洗。一般半年清洗一次。設備主機背側有拓污口，可進行清洗排污。清洗時，在水射器正常工作狀態(tài)下，從進氣口抽入清水，清水將隨反應器內的液體一同被水射器抽走；也可打開安全閥，往里注入清水進行清洗，當反應室液休顏色變淺后，打開排污閥，將殘液排凈，反復幾次，直到清洗干凈為止。
【工作條件】
- 本系列產(chǎn)品適用于向帶壓（管道投加，管網(wǎng)壓力≤0.6Mpa)或常壓水體（接觸池）中投加藥劑；
- 設備操作現(xiàn)場需要備有電源（～380V/220V）、水源（0.25≤壓力≤0.5Mpa）；
- 設備間具有良好的排水及通風設施；
設備間放置地面平整，無須另做設備基礎。
1. 氯酸鈉原料添加：將原料罐動力水閥（1）打開，使水射器工作形成負壓。打開氯酸鈉吸料閥（4）。這時水射器對氯酸鈉儲罐吸真空，氯酸鈉儲罐形成負壓，將氯酸鈉儲罐吸料口軟管（20帶過濾器）放入配好的氯酸鈉水溶液中。氯酸鈉水溶液會在負壓作用下吸入氯酸鈉儲罐內。待氯酸鈉儲罐液位快要滿時將氯酸鈉儲罐吸料口軟管從氯酸鈉水溶液中拿出。關閉氯酸鈉吸料閥（4），關閉原料罐動力水閥（1）完成氯酸鈉的添加。
安全聯(lián)鎖保護系統(tǒng)
發(fā)生器為密封設計，整個反應在負壓下快速進行，且直接投加產(chǎn)物到使用點，從而保證了整臺設備的安全操作和使用。同時設備具有反應器水套缺水停機、動力水欠水壓停機保護等多種安全措施。反應器安全聯(lián)鎖系統(tǒng)在反應系統(tǒng)正常運行時不動作，反應器內部壓力異常時，迅速動作，安全可靠。
- 控制系統(tǒng)的加熱單元采用自動恒溫閉環(huán)控制，具有加熱水套缺水、溫度傳感器斷路、短路保護及超溫報警并自動停止加熱等保護功能
- 運行保護單元具有動力水欠壓、缺料自動停機保護功能。
- 通訊單元配有RS485通訊接口，采用Profi-bus通訊協(xié)議與上位機進行通訊，實現(xiàn)現(xiàn)場工藝參數(shù)上傳和上位遠動操作。
- 外來信號隨動及聯(lián)動單元可輸入代表流量和余氯的標準電流（4-20mA）信號，并根據(jù)輸入信號控制投加。
- 控制方式： ClO2發(fā)生裝置采用連續(xù)運行方式，流量、余氯控制。
