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高溫超導(dǎo)薄膜的單晶基片LaAlO3

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高溫超導(dǎo)薄膜的單晶基片LaAlO3

 

鋁酸鑭(LaAlO3)單晶是當(dāng)前zui重要的工業(yè)化、大尺寸高溫超導(dǎo)薄膜基片單晶材料。它用提拉法生長(zhǎng),可以得到直徑2英吋及更大的單晶和基片。它與YBaCuO等高溫超導(dǎo)材料和晶格匹配好,介電常數(shù)較低,微波損耗小,因而適于制作高溫超導(dǎo)微波電子器件(如遠(yuǎn)程通訊中的高溫超導(dǎo)微波濾波器等)。有巨大的現(xiàn)實(shí)及潛在的應(yīng)用前景。

晶體主要參數(shù):

 

 

晶系贗立方晶系 黃銅礦Pm3m
晶格常數(shù)( )a=3.790

熔點(diǎn)(℃)

2100

密度(g/cm3)

6.50

比熱(cal/g℃)

 

莫氏硬度

6-6.5

熱膨脹系數(shù)(/℃)

9.4x10-6

介電常數(shù)

εr= 21

特點(diǎn)

適于微波電子器件

生長(zhǎng)方法

提拉法

基片規(guī)格:

 

 

尺寸:10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
Ф15,Ф20,Ф1″,Ф2″,Ф2.6″
厚度:0.5mm,1.0mm
表面拋光:單面或雙面
取向:<100>  <110>  <111>
晶面定向精度:±0.5°
邊緣定向精度:2°(特殊要求可達(dá)1°以?xún)?nèi))
斜切晶片:可按特定需求,加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜(傾斜角1°-45°)的晶片
Ra:≤5Å(5µm×5µm)

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