高溫超導薄膜的單晶基片LaAlO3
鋁酸鑭（LaAlO3）單晶是當前zui重要的工業(yè)化、大尺寸高溫超導薄膜基片單晶材料。它用提拉法生長，可以得到直徑2英吋及更大的單晶和基片。它與YBaCuO等高溫超導材料和晶格匹配好，介電常數(shù)較低，微波損耗小，因而適于制作高溫超導微波電子器件（如遠程通訊中的高溫超導微波濾波器等）。有巨大的現(xiàn)實及潛在的應用前景。
晶體主要參數(shù):
| 晶系 | 贗立方晶系 黃銅礦Pm3m |
| 晶格常數(shù)（ ） | a=3.790 |
熔點（℃） | 2100 |
密度（g/cm3） | 6.50 |
比熱（cal/g℃） | |
莫氏硬度 | 6-6.5 |
熱膨脹系數(shù)（/℃） | 9.4x10-6 |
介電常數(shù) | εr= 21 |
特點 | 適于微波電子器件 |
生長方法 | 提拉法 |
基片規(guī)格：
| 尺寸: | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， |
| Ф15,Ф20，Ф1″，Ф2″,Ф2.6″ |
| 厚度: | 0.5mm，1.0mm |
| 表面拋光: | 單面或雙面 |
| 取向： | ＜100＞ ＜110＞ ＜111＞ |
| 晶面定向精度: | ±0.5° |
| 邊緣定向精度: | 2°（特殊要求可達1°以內） |
| 斜切晶片： | 可按特定需求，加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜（傾斜角1°－45°）的晶片 |
| Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
