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化學(xué)發(fā)光定氮儀

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產(chǎn)品型號(hào)MHY-25473

品       牌北京美華儀

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

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所  在  地北京市

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更新時(shí)間:2017-07-03 15:02:45瀏覽次數(shù):157次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)地 國(guó)產(chǎn) 加工定制

特點(diǎn):

化學(xué)發(fā)光是根據(jù)化學(xué)發(fā)光原理與計(jì)算機(jī)技術(shù)相結(jié)合開(kāi)發(fā)的新一代精密實(shí)驗(yàn)儀器。儀器執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):SH/T 0657-2007、ASTM D4629-1996 液態(tài)石油烴中痕量氮測(cè)定法(氧化燃燒和化學(xué)發(fā)光法)
可廣泛應(yīng)用于石油、化工、煤碳、科研院校等行業(yè),是目前國(guó)內(nèi)外較為*的氮含量分析手段

化學(xué)發(fā)光定氮儀是目前xian進(jìn)的總氮分析儀器,廣泛應(yīng)用

詳細(xì)介紹


化學(xué)發(fā)光定氮儀 型號(hào):MHY-25473
 
特點(diǎn):
 
化學(xué)發(fā)光定氮儀是根據(jù)化學(xué)發(fā)光原理與計(jì)算機(jī)技術(shù)相結(jié)合開(kāi)發(fā)的新一代精密實(shí)驗(yàn)儀器。儀器執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):SH/T 0657-2007、ASTM D4629-1996 液態(tài)石油烴中痕量氮測(cè)定法(氧化燃燒和化學(xué)發(fā)光法)
可廣泛應(yīng)用于石油、化工、煤碳、科研院校等行業(yè),是目前國(guó)內(nèi)外較為*的氮含量分析手段
 
是目前xian進(jìn)的總氮分析儀器,廣泛應(yīng)用于測(cè)定成品油、原油、餾分油、石油氣、塑料、石油化工、食物以及水中等產(chǎn)品中總氮含量。與國(guó)內(nèi)外同類(lèi)儀器相比,具有操作簡(jiǎn)便,性能穩(wěn)定可靠,分析精度高,重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)
 
儀器采用為流行的USB口通信,標(biāo)準(zhǔn)24位數(shù)據(jù)采集,小檢測(cè)信號(hào)小于1微伏。
 
數(shù)據(jù)隨意存放、調(diào)閱、打印、并可根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)數(shù)據(jù)文件解決遇到的相關(guān)問(wèn)題。
 
儀器主要部件采用*器件,整機(jī)性能優(yōu)于國(guó)內(nèi)同類(lèi)儀器,可替代進(jìn)口產(chǎn)品。
 
光電倍增管(PMT)高壓可任意調(diào)節(jié),標(biāo)樣曲線校正可采用單點(diǎn)或多點(diǎn)校正,操作簡(jiǎn)便。
 
 儀器具有*的靈敏度、線性度和抗*力、分析結(jié)果精確可靠。
 
標(biāo)準(zhǔn):
 
SH/T 0657-2007液態(tài)石油烴中痕量氮測(cè)定法(氧化燃燒和化學(xué)發(fā)光法);
 
SH/T 0704-2001石油及石油產(chǎn)品中氮含量測(cè)定法(舟進(jìn)樣化學(xué)發(fā)光法);
 
GB/T 17674-1999原油及其產(chǎn)品中氮含量的測(cè)定(化學(xué)發(fā)光法);
 
ASTM D5762-2010用船進(jìn)氣化學(xué)發(fā)光法測(cè)定石油和石油產(chǎn)品中氮的試驗(yàn)法;
 
ASTM D4629-2010 注射/插入氧化燃料和化學(xué)發(fā)光法測(cè)定液態(tài)石油碳?xì)浠衔镏泻哿坑袡C(jī)結(jié)合物氮的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法;
 
  ASTM D6069-2001通過(guò)氧化燃燒和還原壓力化學(xué)發(fā)光檢測(cè)法測(cè)定航空用碳?xì)浠衔镏泻哿康臉?biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法。
 
技術(shù)參數(shù):
 
 樣品種類(lèi):液體、固體和氣體(需配相應(yīng)的進(jìn)樣器)
 
 測(cè)定方法:化學(xué)發(fā)光法(N)                 

 測(cè)定范圍:0.1mg/L~5000ppm~百分含量
 
 檢測(cè)下限:0.1mg/L(氮元素)
 
 重復(fù)性誤差:①0.1mg/L≤X<1.0mg/L;   ≤±0.1mg/L;
 
               ②1.0mg/L≤X<100mg/L,    ≤10%
 
 ③100mg/L≤X≤10000mg/L,  ≤5%               

 氣源要求:高純氧氣:99.98%以上            高純氬氣:99.98%以上
 
 控溫范圍:室溫~1100℃
 

 

 

 

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