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場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡測(cè)試設(shè)備介紹,電子顯微鏡測(cè)試設(shè)備介紹SEM
日本Hitachi在電子顯微鏡領(lǐng)域一向以技術(shù)潮流著稱:1972年發(fā)布臺(tái)場(chǎng)透射電子微鏡,經(jīng)過30多年的發(fā)展,日立開發(fā)、應(yīng)用了大量的新技術(shù),例如電子槍多重偏壓、浸沒式(In-lens)、半浸沒式(Semi In-lens)物鏡、E x B式探測(cè)器,電子減速功能等等。推出了一系列性能優(yōu)異、應(yīng)用廣泛的新型號(hào)電鏡,受到了用戶的*。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外,在北美和歐洲也擁有研究開發(fā)中心,在六十多個(gè)國家經(jīng)營銷售、和提供維修服務(wù)。 Hitachi公司將納米尺度呈獻(xiàn)給研究人員和生產(chǎn)廠商。
在成功推出S-3000系列后,推出新型S-3400N型鎢燈絲SEM,它集成了Hitachi多年開發(fā)的新技術(shù),例如新型電子槍、大錐角物鏡、5分割半導(dǎo)體式背散射探頭、物鏡光闌自動(dòng)合軸等等,極大地提高設(shè)備的性能和應(yīng)用擴(kuò)展能力、使操作和維護(hù)更加簡易。
S-4800屬于場(chǎng)發(fā)射SEM,它集成S-4700和S-5200型的優(yōu)點(diǎn),采用新型E x B式探測(cè)器和電子束減速功能提高了圖像質(zhì)量,特別是低電壓的圖像分辨率;新型的透鏡系統(tǒng),提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式。
作為掃描電鏡配套的能譜分析儀器,我們供應(yīng)日本Horiba公司或美國EDAX公司的產(chǎn)品。
S-4800場(chǎng)發(fā)射SEM系統(tǒng):
1. 分辨率:二次電子(SE)成像:高真空模式:1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率:低倍模式20 ~2,000倍;高倍模式100 ~800,800倍
3. 電子槍:冷陰極場(chǎng)發(fā)射電子源,束流1pA–2nA;加速電壓:0.5~30 kV;3級(jí)電磁透射會(huì)聚系統(tǒng)
4. 樣品室可容納樣品左右直徑200 mm,同心樣品臺(tái),四軸自動(dòng),可安裝EDS、冷卻臺(tái)附件
5. 移動(dòng)大范圍:X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°;傾斜T:范圍不小于-5°~70°(手動(dòng))
6. 探測(cè)器:二次電子檢測(cè)器、固體背散射電子檢測(cè)器;樣品室 IR-CCD 相機(jī)
7. 圖像掃描:不低于5120×3840像素;圖像顯示1280×960像素
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