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同類(lèi)產(chǎn)品
Optima 8000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)規(guī)格
1.設(shè)備用途及總體要求:
用于對(duì)各類(lèi)樣品中主量、微量及痕量元素的定性、半定量和定量分析。儀器以固體檢測(cè)器為基礎(chǔ),由進(jìn)樣系統(tǒng)、高頻發(fā)生器、等離子體炬、光路系統(tǒng)、檢測(cè)器、分析軟件和計(jì)算機(jī)系統(tǒng)組成,全自動(dòng)控制,儀器監(jiān)控儀表全部由計(jì)算機(jī)控制,任何儀器參數(shù)都不需要手動(dòng)調(diào)節(jié)的全譜直讀型臺(tái)式等離子體發(fā)射光譜儀。
2.設(shè)備總體性能:
2.1動(dòng)態(tài)范圍 :³ 106,具有同時(shí)準(zhǔn)確分析出中量(1%以上)、常量(0.01%)和微量(1ppm以下)元素的實(shí)際樣品用戶(hù)應(yīng)用實(shí)例。具有同時(shí)準(zhǔn)確分析主量(50%以上)和常量(0.01%)元素的實(shí)際樣品用戶(hù)應(yīng)用實(shí)例。
2.2分析速度 : ³ 15 個(gè)元素/分鐘,且實(shí)施背景校正。
2.3精密度 :1ppm 混合多元素溶液。CV<0.5%。
2.4 穩(wěn)定性 :1小時(shí)RSD<1%, 4小時(shí)RSD<2%。
2.5分辨率 :在200nm處,像素分辨率 :£0.003nm。
2.6 檢出限,以1ppm混標(biāo)測(cè)量建立儀器的靈敏度,以6次空白溶液測(cè)量的3s強(qiáng)度所對(duì)應(yīng)的濃度計(jì)算檢出限,所有下列檢出限必須在同一個(gè)儀器參數(shù)下同時(shí)做出。
元素 | 檢出限(ppb) | 元素 | 檢出限(ppb) | 元素 | 檢出限(ppb) | 元素 | 檢出限(ppb) |
Al | 1 | As | 4 | B | 2 | Be | 0.2 |
Cd | 0.2 | Co | 0.5 | Cr | 0.5 | Cu | 1.5 |
Fe | 0.5 | Mn | 0.2 | Mo | 2.5 | Ni | 0.5 |
Pb | 1.5 | Sb | 4 | Se | 5 | T1 | 4 |
V | 0.5 | Zn | 0.5 |
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2.7靈敏度
旋流霧室和同心霧化器(單位:cps/ppm)
Mn 257.610nm > 8.5×106,Al 396.153nm > 1×106,Ni 231.604nm > 3×105
As 193.696nm > 1.5×104,Pb 220.353nm > 5×104,P 213.617nm > 3×104
2.8 具有高純氣體中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶(hù)應(yīng)用實(shí)例。可以分析高純氮?dú)?、氫氣、氦氣?/span>0.1微克/升以下含量的雜質(zhì)。
2.9 具有99.99%高純材料(例如高純石英砂)中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶(hù)應(yīng)用實(shí)例。
2.10 具有鍍鋁鋅板、鋯鐵合金、鈦合金、鋁鐵錳青銅、鑄造鋁合金、耐磨鑄鐵、變形鋁合金、鉛黃銅、黃金合金、催化劑、電鍍液等冶金材料中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶(hù)應(yīng)用實(shí)例。
2.11 具有土壤、沉積物、植物、沉積巖、硅灰石、水、動(dòng)物組織、紡織品、松香、植物油、化妝品、食品、中藥、西藥等樣品類(lèi)型中痕量雜質(zhì)分析的能力和用戶(hù)應(yīng)用實(shí)例。
3.進(jìn)樣系統(tǒng)
3.1 霧化器:標(biāo)配耐HF酸耐高鹽分的霧化器,耐: 50% (v/v) HCl、HNO3、H2SO4、H3PO4,20% (v/v) HF,30% (w/v)NaOH以及30%的高鹽樣品。
3.2 霧化器噴嘴為紅寶石和藍(lán)寶石材料制成。
3.3 霧室:標(biāo)配耐HF酸耐高鹽分樣品。
3.4 霧室為不親水的高強(qiáng)度高純氟塑料材料制成。
3.5 分析含HF、HCl、HNO3酸等各種樣品,霧化器和霧室的使用壽命不少于5年,并有超過(guò)5年的用戶(hù)使用實(shí)例。
3.6炬管為可拆卸式結(jié)構(gòu),炬管中心管標(biāo)配為剛玉材料,其使用壽命不少于5年,并有超過(guò)5年的用戶(hù)使用實(shí)例。
3.7炬管和霧化器、霧室為一體式設(shè)計(jì),從霧室到炬管無(wú)需任何管線(xiàn)連接,以減小樣品分析時(shí)的記憶效應(yīng),且炬管和霧化器、霧室可以同時(shí)安裝同時(shí)拆卸,安裝和拆卸無(wú)需任何工具,安裝和拆卸時(shí)間不超過(guò)1分鐘。
3.8等離子體和進(jìn)樣系統(tǒng)分別在兩個(gè)室內(nèi),以減小等離子體的高溫對(duì)霧化器、霧室的影響。
3.9 蠕動(dòng)泵為內(nèi)置三通道水平式全自動(dòng)設(shè)計(jì),蠕動(dòng)泵進(jìn)樣量從0.1毫升/分鐘到5.0毫升/分鐘連續(xù)可調(diào),并且具有沖洗功能,在分析完高鹽分樣品后智能快速?zèng)_洗以提高分析速度。
3.10 進(jìn)樣系統(tǒng)具有溫度控制系統(tǒng),當(dāng)環(huán)境溫度變化較大時(shí),溫度控制系統(tǒng)可以較小環(huán)境溫度變化的對(duì)霧化器霧化效率的影響,以提高儀器的穩(wěn)定性。
4.射頻發(fā)生器和等離子體
4.1 類(lèi)型:自激式射頻發(fā)生器,無(wú)需大功率管。
4.2 頻率:40.68MHz。
4.3 功率:750W~1500W,1W增量連續(xù)可調(diào)。
4.4 功率穩(wěn)定性?xún)?yōu)于0.1%。
4.5 射頻發(fā)生器的功率傳輸效率優(yōu)于81%。
4.6 射頻輻射防護(hù)滿(mǎn)足FCC管理規(guī)范Part 18的要求,同時(shí)符合EC和VDE 0871的B級(jí)射頻輻射防護(hù)要求。在等離子體點(diǎn)燃的情況下,操作者依然可以安全地調(diào)節(jié)炬管的位置。
4.7 等離子體為水平式,觀測(cè)方式有水平和垂直兩種,在一次分析中可以采用水平和垂直兩種觀測(cè)方式,由軟件控制全自動(dòng)切換,并同時(shí)給出兩種觀測(cè)方式的測(cè)量結(jié)果。
4.8 等離子體的點(diǎn)燃為全自動(dòng)控制,除ICP-OES的主機(jī)電源外,諸如載氣流量等所有操作參數(shù)都無(wú)需手動(dòng)調(diào)節(jié)。操作者可以設(shè)定儀器自動(dòng)開(kāi)機(jī)的時(shí)間,以及分析完
樣品后自動(dòng)關(guān)機(jī)的時(shí)間,自動(dòng)關(guān)機(jī)和開(kāi)機(jī)的整個(gè)過(guò)程都無(wú)需操作者參與。
4.9 儀器具有全面的安全連鎖保護(hù),隨時(shí)監(jiān)測(cè)循環(huán)水機(jī)的水流、各種氣體的壓力等參數(shù),即使操作者出現(xiàn)誤操作,也不會(huì)對(duì)儀器造成損壞和人員的傷亡。
4.10 由于射頻發(fā)生器的很多參數(shù)無(wú)法進(jìn)行驗(yàn)收測(cè)試,所有上述數(shù)據(jù)以?xún)x器制造商英文原版印刷材料為準(zhǔn)。
4.11 免維護(hù)的平板等離子體設(shè)計(jì),通過(guò)兩塊鋁板形成等離子體,鋁板無(wú)需循環(huán)冷卻水進(jìn)行冷卻,長(zhǎng)壽命,終身免維護(hù)。
4.12 等離子體正常運(yùn)行的氬氣消耗總量小于10升/分鐘。
4.13 等離子體具有實(shí)時(shí)全彩色攝像系統(tǒng),操作者在儀器的控制軟件中可以實(shí)時(shí)全彩色看到等離子體的運(yùn)行圖形,并觀察炬管、炬管中心管是否變臟需要清洗。
5.光學(xué)系統(tǒng)和檢測(cè)器
5.1光學(xué)穩(wěn)定性:光學(xué)系統(tǒng)密閉并可以進(jìn)行吹掃,與進(jìn)樣系統(tǒng)設(shè)計(jì)在一個(gè)平臺(tái)上,整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)具有防震措施,一般的地面震動(dòng)不影響其分析性能。
5.2系統(tǒng)類(lèi)型:高性能二維(交叉)色散中階梯光柵(棱鏡),波長(zhǎng)范圍:160-900nm,具有3萬(wàn)條以上的譜線(xiàn)庫(kù),每條譜線(xiàn)至少可以選擇30個(gè)象素點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量。對(duì)于常見(jiàn)元素Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn,軟件的默認(rèn)推薦譜線(xiàn)不少于5條。
5.3光路設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單、可靠,中階梯光柵的閃耀角在60度以上,中階梯光柵刻線(xiàn)密度在60條/mm以上。
5.4 焦距200 mm-650mm。
5.5 檢測(cè)器必須是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于ICP-OES分析的固態(tài)檢測(cè)器,且無(wú)紫外線(xiàn)轉(zhuǎn)換熒光涂層,無(wú)老化問(wèn)題。
5.6低紫外 (<190nm) 譜線(xiàn)可以采用氮或氬氣吹掃,吹掃的氣體流量由軟件控制,并具有正常吹掃和高流量吹掃兩種模式可選。
5.7內(nèi)建氖燈自動(dòng)進(jìn)行波長(zhǎng)校正,每一條譜線(xiàn)在使用前都不需要用標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行譜線(xiàn)定位。儀器在*關(guān)機(jī)的情況下開(kāi)機(jī),兩分鐘之內(nèi)即可進(jìn)行分析測(cè)試投入運(yùn)行,無(wú)需長(zhǎng)時(shí)間的預(yù)熱。
5.8 在光學(xué)設(shè)計(jì)上強(qiáng)光和弱光測(cè)量不能采用同樣的積分時(shí)間,以避免檢測(cè)器的損壞,表現(xiàn)在儀器的軟件上為積分時(shí)間自動(dòng)確定,隨樣品中元素含量的不同而自動(dòng)變化,無(wú)需人工設(shè)置積分時(shí)間。
6.分析軟件:
6.1軟件操作方便、直觀,具有定性、半定量、定量分析功能,軟件為全中文多任務(wù)操作,即在分析樣品的同時(shí),能同時(shí)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,并處理和打印全中文報(bào)告??刂栖浖梢栽谥形陌?/span>Windows XP下運(yùn)行,可以脫離儀器安裝在其它計(jì)算機(jī)上進(jìn)行模擬運(yùn)行(模擬等離子體點(diǎn)火、熄火、樣品分析),同時(shí)模擬軟件具有數(shù)據(jù)處理功能,以便于教學(xué)、演示和培訓(xùn)。
6.2具有元素間干擾校正技術(shù)、譜線(xiàn)擬合干擾校正技術(shù)和實(shí)時(shí)背景扣除功能等不少于3種干擾校正技術(shù)。
6.3每一條譜線(xiàn)的積分時(shí)間都可以自動(dòng)優(yōu)化,無(wú)需使用者進(jìn)行估計(jì),軟件會(huì)根據(jù)樣品中元素的含量自動(dòng)進(jìn)行選擇。
6.4軟件設(shè)計(jì)全面符合電子簽名管理的21 CFR Part 11管理法規(guī);
6.5全自動(dòng)安全保護(hù)功能,儀器通訊和控制采用GPIB控制卡,軸向、側(cè)向觀測(cè)位置由軟件控制自動(dòng)優(yōu)化。具有控制蠕動(dòng)泵進(jìn)行智能清洗的功能。
6.6全面控制流動(dòng)注射分析系統(tǒng)(FIMS),其分析汞的檢出限優(yōu)于0.01ppb。
6.7具有氫化物發(fā)生ICP-OES分析功能。
6.8支持液相色譜(HPLC)與ICP-OES聯(lián)用進(jìn)行形態(tài)分析。
6.9具有顯示二維中階梯光譜圖的功能,并顯示分析譜線(xiàn)在光譜圖中的位置,所顯示的二維光譜圖必須與中階梯分光所產(chǎn)生的二維圖形*匹配。具有半定量分析功
能,即無(wú)需分析標(biāo)準(zhǔn)溶液,即可直接獲得樣品中超過(guò)50個(gè)元素的濃度半定量結(jié)果。
6.10具有在主軟件運(yùn)行時(shí)同時(shí)運(yùn)行離線(xiàn)數(shù)據(jù)處理(Offline)的功能。數(shù)據(jù)檔案管理功能,支持?jǐn)?shù)據(jù)的備份、恢復(fù)、刪除,支持?jǐn)?shù)據(jù)的文本格式輸出。具有與LabWorks LIMS無(wú)縫連接的功能,并具有與國(guó)產(chǎn)LIMS連接的接口。
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