鹽霧設(shè)備的溫度測量點和沉降量測量點

鹽霧設(shè)備的溫度測量點和沉降量測量點
溫度測量點：
在被檢定設(shè)備工作室內(nèi)定出上 、中、下三個水平層面（簡稱上 、中、下三層〉；上層與工作室頂面的距離是工作室高度的 1/ 10，中層通過工作室?guī)缀沃行狞c，下層在底層樣品架上方10mm處。
測量點位于上 、中、下三層，如圖1 和圖 2 ，用 、A 、B、C、D、E J  、G 、H 、J 、K 、L 、M、N 、U 表示；工作室容積不大于2 m 時，測量點為 9 個 ，位置如圖1 。

 
測量點位于工作室的幾何中心（或離噴霧 塔適當距離），其他各測量點與試驗設(shè)備內(nèi)壁的距離為各自邊長的1/ 10 ，但不小于50 mm。
工作室容積大于2 時，測量點為15 個，位置如圖 2

測量點 E、0、U 分別位于上 、中、下層的幾何中心，其他各測量點與試驗設(shè)備內(nèi)壁的距離為各自邊長的 1/ 10，但不小于50 mm 。
若在某測量點上測得 的數(shù)據(jù)不符合要求時，可適當放寬該測量點到箱壁的距離 ，并在檢定報告 中予以記載。
鹽霧沉降量測量點：
工作容積不大于2時，測量點5 個，除中心點3 外，其他各點與試驗設(shè)備內(nèi)壁的距離約為150 mm ，如圖 3。中心位置有噴霧塔 時，中心點可離噴霧塔適當距離 。

工作室容積大于2 時，測量點為 9 個 ，除中心點 5 外，其他各點與內(nèi)壁距離均為 170 mm ，如圖4 。中心位置有噴霧塔時，中心點可離噴霧塔適當距離 。

玻璃漏斗位于測量點上，其上平面與工作室底面的高度為工作室高度的 1/ 3。