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今天我們來說一下黃光制成，黃光制成能力大于激光能力的，也就是說黃光制成能把線做的很細(xì)。

我們先來看一下黃光制成的工藝

我們從上面的工藝一步步來講解

1、PR 前清洗

     ITOGLASS 清洗指用物理的方法（磨刷噴洗）和化學(xué)的方法（去離子水 DI 水和 KOH）將玻璃表面的臟污和油污、雜質(zhì)除去并干燥的過程。

2、PR 涂佈指在玻璃的導(dǎo)電層表面均勻涂上一層光刻膠。

3、前烘指在一定溫度下將涂有光刻膠的玻璃烘一段時(shí)間、使光刻膠的溶劑揮發(fā)，形成固體的PR層。

4、曝光

      指用紫外線通過預(yù)先設(shè)置好的菲林垂直照射光刻膠表面，使被照射部分的光刻膠發(fā)生反應(yīng)。

5、顯影

指用弱 KOH 溶液去離玻璃表面將徑光照射部分的光刻膠除去，保留未照射部分的光刻膠。

6、堅(jiān)膜指將玻璃在徑一次高溫處理，使光刻膠膜更加堅(jiān)固。

7、蝕刻指用適當(dāng)?shù)乃嵋簩o光刻膠覆蓋的 ITO 層除去，這樣就得到了我們所需要的 ITO電極圖形。

8、脫膜指用較強(qiáng)的 KOH 剝膜液將殘留光刻膠除去，將玻璃表面清洗干燥。

1. PR 前清洗

A. 清洗：指清除吸附在玻璃表面的各種有害雜質(zhì)或油污。

清洗方法是利用各種化學(xué)濃劑（KOH）和有機(jī)濃劑與吸附在玻璃表面上的雜質(zhì)及油污發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和濃解作用，或以磨刷噴洗等物理措施，使雜質(zhì)從玻璃表面脫落，然后用大量的去離子水（DI 水）沖洗，從而獲得潔凈的玻璃表面。（風(fēng)切是關(guān)鍵）

B. 干燥：因經(jīng)過清洗后的玻璃，表面沾有水或有機(jī)濃劑等清洗液。這樣會(huì)對(duì)后續(xù)工序造成不良影響，特別是對(duì)后續(xù)光刻工藝會(huì)產(chǎn)生浮膠、鉆蝕、圖形不清晰等不良現(xiàn)象。因此，清洗后的玻璃必須經(jīng)過干燥處理。

目前常采用的方法是烘干法，而是利用高溫烘烤，使玻璃表面的水分氣化變?yōu)樗魵舛サ倪^程，此方法省時(shí)又省力。但是如果水的純度不變，空氣凈化等不多或干燥機(jī)溫度不夠，玻璃表面殘存的水分 雖經(jīng)氣化為蒸氣，但在玻璃表面還會(huì)留下水珠，這種水珠將直接影響后續(xù)工序的產(chǎn)品質(zhì)量。

C. 十槽清洗機(jī)，PR 清洗機(jī)制程參數(shù)之設(shè)定 ：

1---3 槽 KOH 溶液為 0.4~0.7N，溫度為 60±5℃，浸泡時(shí)間為 2~3min／槽

純水溢流量為 0.5±0.2 ㎡／n.

KOH 溶度為 1.0N~1.6N,溫度為 40±5℃,噴洗壓為 0.2~1.0kgf/c ㎡,傳動(dòng)速度為 3.0~4.5m/min,磨刷轉(zhuǎn)速為 85~95rpm,壓力為 0.2~1.0kg/c ㎡，純水溫度為 40±5 ℃，干燥機(jī) 1.2.3 段溫度為 110℃±10℃。

注：玻璃清洗潔凈度不夠之改改善對(duì)策，適當(dāng)加入少許 KOH 溶液，改變 KOH，溶液，經(jīng)常擦拭風(fēng)切口，噴洗等處，亦可調(diào)態(tài)清洗機(jī)傳動(dòng) 速度，將傳速度減慢。

2. PR 涂佈

光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合，綜合性的精密表面加工技術(shù)。光刻的目的就是按照產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求，在導(dǎo)電玻璃上覆感光膠。

A． 光刻膠的配制

光刻膠的性能與光刻膠的配比有關(guān)。配比的選擇原則是即要光刻膠是有良好的抗蝕能力，又要有較高的分辨率。但兩者往往是相互矛盾的，不能同時(shí)達(dá)到。因此，必須根據(jù)不同的光刻對(duì)象和要求，選取不同的配比。

光刻膠的配制應(yīng)在暗室（潔凈度較高的房間）中進(jìn)行。用量筒按配方比例將原膠及溶劑分別量好，再將溶劑倒入原膠，用玻璃棒充分?jǐn)嚢枋怪鶆蚧旌?，通常剛配制好的光刻膠中必然還存在少量因態(tài)物質(zhì)微粒未能*溶解，為把這部分未能溶解的固態(tài)物質(zhì)微粒濾除，我們一般采用自然沉淀法進(jìn)行過濾。

B． 涂膠

為保證 ITO 層與光刻膠之間有良好的接觸和粘附，清洗后的玻璃應(yīng)立即送光刻工序進(jìn)行涂膠。如果玻璃擱置較久或者光刻返工，必須重洗在涂膠。

涂膠要求，粘附良好，均勻厚薄適當(dāng)。若膠膜太薄，針孔較多，則抗蝕能力差，膠膜太厚，則分辨率低。

涂膠方法采用旋轉(zhuǎn)及車混涂法。為保證膠膜質(zhì)量，涂膠應(yīng)在潔凈無塵操作箱

內(nèi)進(jìn)行。涂膠機(jī)內(nèi)溫度應(yīng)保持在 20℃~25℃范圍內(nèi)，相對(duì)溫度低于 60%，涂膠要在黃燈照射條件下進(jìn)行，以防止光刻膠露光失效。

C. 前烘

前烘的方法是在恒溫干燥箱中烘烤，具體條件視膠的種類和性質(zhì)而定影響前烘質(zhì)量的主要因素是溫度和時(shí)間，烘烤不足（溫度過低或時(shí)間太短）

在膠膜與 ITO 交界面處，膠中的溶劑未充分揮發(fā)，曝光后形成浮膠或使圖形變形。烘烤過頭（溫度太高或時(shí)間太長(zhǎng)），會(huì)導(dǎo)致膠膜翹曲硬化，形成不易溶于顯影液中的薄膜而留下來，顯影不干凈或膠面發(fā)皺，發(fā)黑，失去抗蝕能力。

D．PR 涂膠機(jī)機(jī)臺(tái)參數(shù)之設(shè)定

滾輪傳速與涂布輪傳速為 218±5 轉(zhuǎn) 1 分，干燥機(jī)傳速為 4.0±2m/min

光刻膠米方度為 30±2mpa.s,光刻膠壓入量為 0.5±0.1mm.（光刻膠只能四收 5 次使用）光阻劑：稀釋劑=10:1（依粘度測(cè)試情況而定）.注：涂布不良(涂布?xì)馀?、涂布不均?之改善對(duì)策，調(diào)態(tài)涂膠滴管內(nèi)光刻膠滴入量。

3． 曝光

目前曝光方法采用接觸式曝光，因此方法所用設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，它包括“定位”和“曝光兩個(gè)步聚。定位對(duì)光刻精度影響很大，是光刻中十分重要的一環(huán)，要認(rèn)真對(duì)準(zhǔn)。

一般操作程序是：光預(yù)熱紫外光（UV）燈，待光源穩(wěn)定后，把菲林安裝在支架上；將涂有光刻膠的 ITO 玻璃放在平臺(tái)上，膠面朝上，將光刻菲林支架放下，仔細(xì)調(diào)態(tài)平臺(tái)微動(dòng)裝置，使菲林上定位標(biāo)志與平臺(tái)上玻璃的定位準(zhǔn)確套合。定位完成即可曝光，曝光后經(jīng)過顯影并檢查定位是否正確。

曝光時(shí)間由光源到 ITO 玻璃的距離，光源強(qiáng)弱，光刻膠的感光性能及菲林、玻璃厚薄等因素決定

如曝光時(shí)間過短，光刻膠感光不足，則其光化學(xué)反應(yīng)不充分 ，光刻膠的抗蝕性能就會(huì)降低，顯影時(shí)部分溶解，此時(shí)在投影機(jī)下可觀察到膠膜發(fā)黑；

若曝光時(shí)間太長(zhǎng)，會(huì)使光刻膠本不該感光部分的邊緣被微弱感光，即產(chǎn)生“暈光”現(xiàn)象，蝕刻后邊原模糊或發(fā)現(xiàn)皺紋，使分辨率降低。

為了保證曝光質(zhì)量，在操作中要注意以下幾點(diǎn)；

（1） 定位必須嚴(yán)格套準(zhǔn)

（2） 菲林必須平整地貼在玻璃上，不能有空隙。若存在空隙，則不該曝光的地

方會(huì)受到光的照射，使圖形產(chǎn)生畸變；（3） 曝光操作中，應(yīng)注意動(dòng)作要輕，保護(hù)好菲林不致劃傷；（4） 曝光時(shí)間必須準(zhǔn)確控制。

曝光治具有菲林、干版、絡(luò)版曝光工藝參數(shù)之設(shè)定：

(1) 光量為 100-140mj/c ㎡,曝光時(shí)間為 6.8-8.5s,曝光柄位之標(biāo)準(zhǔn)公差±

0.2mm,曝光機(jī)內(nèi)紫外光被為 380-780 納米。

4． 顯影

顯影的目的是將未感光部分的光刻膠溶除，留下感光部分膠膜，從而顯現(xiàn)

出所需要的圖行。

顯影必須*，以使圖形邊緣整齊。顯影需嚴(yán)格控制好顯影時(shí)間。若顯影時(shí)間不足，則在未感光處留下一層不易察覺的光刻膠層，在蝕刻 ITO 層之間，它起了祖蝕作用，而隨意蝕刻液對(duì)這一博層膠膜的穿透和破壞，使這一博層的 ITO 層蝕刻不*，形成斑紋或小島。此外，顯影不足還會(huì)使膠膜邊緣出現(xiàn)厚度不均的過夜區(qū)，造成邊緣毛刺，圖形模糊，影響光刻質(zhì)量。若顯影時(shí)間過長(zhǎng)，由于顯影時(shí)光刻膠發(fā)生軟化、膨脹，顯影液從 ITO 層表面向圖形邊緣滲入，發(fā)生粘溶，使圖形邊緣變形。有的甚至?xí)霈F(xiàn)浮膠現(xiàn)象，ITO 表面的膠膜皺起呈橘皮狀，嚴(yán)重的甚至大片剝落形成脫膠。

為了保證顯影質(zhì)量，必須嚴(yán)格控制顯影顯影時(shí)間并及時(shí)更換顯影液。顯影后玻璃一般應(yīng)檢查一下幾個(gè)方面：

（1） 圖形定位是否準(zhǔn)確；（2）圖形邊緣是否整齊；

（3）有無皺膠和膠發(fā)黑；（4）有無浮膠；

（5）有無膠面及 ITO 層的劃傷；(6)顯影漂洗是否干凈等；

顯影機(jī)工藝參數(shù)之設(shè)定：

KOH 溶度為 0.1-0.18N，溫度為 30±2℃，壓力為≦0.2kg/c ㎡,傳速為 4.5± 1.5m/min，噴洗壓力為 0.1-0.5 kg/c ㎡。

5. 堅(jiān)膜

由于顯影時(shí)膠膜發(fā)生軟化、膨脹，影響膠膜抗蝕能力，，因此在顯影后必須以適當(dāng)溫度烘干玻璃，以去除顯影夜和水份，使膠膜堅(jiān)固。堅(jiān)膜可以使膠膜與 ITO 層之間貼得更牢，同時(shí)也增強(qiáng)了膠膜本身的抗蝕 能力。

堅(jiān)膜的溫度和時(shí)間要適當(dāng)選擇，若堅(jiān)膜不足，則因膠膜沒有烘透，不夠堅(jiān)固，在蝕刻時(shí)發(fā)生浮膠或嚴(yán)重測(cè)蝕等。若堅(jiān)膜過度，則使膠膜因熱膨脹會(huì)產(chǎn)生翹曲和剝落，當(dāng)蝕刻時(shí)會(huì)發(fā)生鉆蝕或浮膠。

堅(jiān)膜最好采用緩慢升溫和自然冷卻法，這樣可使膠膜更堅(jiān)固，防止因膠的細(xì)小裂紋而出現(xiàn)毛刺現(xiàn)象。 

6. 蝕刻

蝕刻所選用的酸夜必須能腐蝕掉裸露的 ITO 層，又不損傷玻璃表面的光刻膠層。另外，還要求酸夜毒性小，使用方便。（酸夜為 HCL+HNO3 的混合物）。

蝕刻溫度對(duì)蝕刻效果影響很大，溫度太低，則蝕刻時(shí)間要長(zhǎng)，易產(chǎn)生浮膠；溫度太高，則蝕刻酸夜太活潑，也較易產(chǎn)生脫膠或鉆蝕現(xiàn)象。

光刻質(zhì)量要求和分析

（1）光刻質(zhì)量要求

因光刻質(zhì)量的好壞直接影響到產(chǎn)品性能，成品率和可靠性，所以把好光刻工藝的質(zhì)量關(guān)是十分重要的。

蝕刻的圖形完整，尺寸準(zhǔn)確，邊緣整齊，線條陡直；圖形內(nèi)無小島、針孔、毛刺等，蝕刻干凈；蝕刻后的玻璃表面清潔，不發(fā)光，沒有殘留的被蝕刻夜；圖形定位準(zhǔn)確；

（2） 光刻質(zhì)量分析

要達(dá)到好上所示的質(zhì)量，必須對(duì)光刻過程中存在的各種缺陷和弊病進(jìn)行分析和研究，找出原因，才有可能克服這些缺陷和弊病。

A.顯影時(shí)產(chǎn)生浮膠的原因一般有：

涂膠前玻璃表面不潔凈，表面有油污，水汽等，或玻璃清洗后在空氣中放置時(shí)間過長(zhǎng)，空氣中的水汽附在玻璃表面上；或者涂膠膜操作環(huán)境濕度太大，使膠與玻璃表面粘附不良。因此，必須注意做好玻璃表面潔凈處理和操作環(huán)境的

溫濕度及清潔工作。

光刻膠配制有誤膠陳舊不純，膠的光化學(xué)反映性能不好，使膠與 ITO 層結(jié)合能力差；或者膠膜不均勻和過厚，引起粘附不良。

前烘時(shí)間不足或過液。烘烤時(shí)間不足，膠膜內(nèi)溶劑不能及時(shí)揮發(fā)，顯影時(shí)部分膠膜被溶除；烘烤時(shí)間過長(zhǎng)，膠膜翹曲硬化，膠的感光特性會(huì)發(fā)生變化。所以前烘必須恰當(dāng)。

曝光不足，光硬化反映不*，膠膜溶于顯影液中，引起浮膠。因此，在保證分辨率的前提下，曝光要充分。

顯影時(shí)間太長(zhǎng)，顯影液從膠膜底部不斷滲入，引起浮膠。因此必須控制好顯影時(shí)間。

B.蝕刻 ITO 層時(shí)產(chǎn)生的浮膠原因有：

蝕刻是產(chǎn)生的浮膠，除了與顯影時(shí)產(chǎn)生的浮膠有相同原因外，還有以下幾個(gè)原因；

堅(jiān)膜不足，膠膜烘烤熱固化不夠。所以堅(jiān)膜要充分，但也不能太高。

蝕刻液溫度太低或太高。溫度太低，蝕刻緩慢，則蝕刻時(shí)間太長(zhǎng)，蝕刻液穿透或從底部滲入膠膜，引起浮膠；溫度太高，蝕刻液活潑性強(qiáng)，也可能產(chǎn)生浮膠。因此蝕刻溫度要選擇適當(dāng)。

蝕刻液配制失誤，蝕刻液的活潑性太強(qiáng)。

a.產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的原因有：

涂膠前玻璃表面潔凈度不夠，存在污物，油污、小顆粒吸附水汽，使光刻膠

與 ITO 層粘附不良，引起毛刺或局部鉆蝕。光刻底板不好，圖形邊緣有毛刺狀缺陷。

光刻膠過濾不好或太陳舊，存在顆粒狀物質(zhì)，造成粘附不良。

顯影時(shí)間過長(zhǎng)，圖形邊緣發(fā)生鉆溶，蝕刻時(shí)就要造成鉆蝕。

曝光不足，光硬化反映不*，顯影后在膠膜上產(chǎn)生溶坑或圖形邊緣引起鉆溶，蝕刻時(shí)造成毛刺或鉆蝕.

b.產(chǎn)生針孔的原因有：

     光刻掩模版質(zhì)量不好，本身有針孔；涂光刻膠時(shí)，操作環(huán)境被灰塵沾污；

光刻膠涂得太薄，或光刻膠本身抗蝕性能太差；曝光時(shí)間控制不好；蝕刻液配比不當(dāng)；

玻璃表面本身缺陷也可能造成針孔。

c.產(chǎn)生“小島”的原因及其處理方法

由于菲林不好，圖案區(qū)有針孔或損傷，曝光是光透過這些針孔，使這些地方的膠膜局部感光，成為不溶于顯影液的膠膜“小島”，蝕刻后成為 ITO 層的“小島”，出現(xiàn)這種情況應(yīng)及時(shí)發(fā)現(xiàn)并更換或處理菲林。

若顯影不*，則在光刻窗口內(nèi)留下一層不易察覺的膠膜，這層膠膜在蝕刻 ITO 層的過程中起阻蝕作用，從而造成 ITO 層蝕刻不*，殘留下 ITO 層“小島”。出現(xiàn)這種情況在膠膜抗蝕能力允許的條件下，應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)蝕刻時(shí)間。

蝕刻液不純，特別是沾有灰塵等異物，往往對(duì) ITO 層有腐蝕作用，形成 ITO 層“小島”。因此，保持玻璃表面清潔，無灰塵污染，保持蝕刻液清潔并定期更換蝕刻液，可以減少由此產(chǎn)生的“小島”。

蝕刻時(shí)間與蝕刻速度有關(guān)，而蝕刻速度又與酸液和溫度有關(guān)，若蝕刻時(shí)間太短，ITO 層未蝕刻干凈，會(huì)導(dǎo)致短路而蝕刻時(shí)間也不宜太長(zhǎng)，因?yàn)槟z膜抗蝕能力有限，時(shí)間長(zhǎng)了蝕刻酸液會(huì)穿透蝕膠膜產(chǎn)生浮膠或使分辨率降低，圖形變壞等。

蝕刻后玻璃應(yīng)檢查項(xiàng)目有：蝕刻不足、蝕刻過度、無卜、短路等。蝕刻工藝參數(shù)之設(shè)定：

酸液溶度為（一般玻璃）6.0-6.5N,（特殊玻璃）為 6.4-6.8N,溫度為 45±2 ℃蝕刻速度：TN 為 3.6±0.1min,STN 為 3.2±0.1 min，噴洗壓力為 0.1-0.3kg/c ㎡.

蝕刻應(yīng)注意之項(xiàng)，在加酸時(shí)停止放玻璃，待酸打滿后在打開循環(huán)加熱器開關(guān)，等溫度恒定在蝕刻玻璃。

7.剝膜

所謂剝膜，就是將經(jīng)過蝕刻的玻璃表面殘留的光刻膠去除干凈。剝膜液溶度（KOH）需控制在 0.8-1.6N 范圍內(nèi)。

8.DI 水清洗

用純水清洗玻璃表面，*去除 KOH 殘夜和表面沾污

將 ITO 圖案出來好的玻璃暫存凈化區(qū)，為下一工序做準(zhǔn)備