Quattro掃描電鏡
三種真空模式（高真空、低真空和 ESEM™）使得系統(tǒng)極靈活性，可以容納任何 SEM 可用的廣泛的樣品類型，包括放氣或者是與真空狀態(tài)不相容的樣品。
Quattro掃描電鏡
Quattro 的分析樣品倉可以滿足日益增長(zhǎng)的樣品元素信息及晶體結(jié)構(gòu)分
析需求，它同時(shí)支持相對(duì)的雙能譜（EDS）探測(cè)器、共面能譜（EDS）/電子
背散射衍射（EBSD）和平行束波譜（WDS）探測(cè)器。無論什么類型的樣
品，在高真空下或與 Quattro 支持的*實(shí)驗(yàn)條件相結(jié)合，無論樣品導(dǎo)
電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下，均可獲得可靠的分析結(jié)果。
由于多用戶設(shè)施要求大量操作人員都能獲得所有相關(guān)數(shù)據(jù)，同時(shí)盡可能
縮短培訓(xùn)時(shí)間，所以易用性是至關(guān)重要的。Quattro *的硬件由幫助功
能（用戶向?qū)В┲С?，不僅可以指導(dǎo)操作者，還可以直接與顯微鏡進(jìn)行交
互。并且通過“撤消（Undo）”功能，鼓勵(lì)新手用戶進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，而專家用戶
可以輕松縮短結(jié)果獲取時(shí)間。
Quattro掃描電鏡
主要優(yōu)勢(shì)
在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行原位研究：具有環(huán)境真空模式（ESEM）的*高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無荷電累積
在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品， 同步獲取二次電子像和背散射電子像
安裝原位冷臺(tái)、珀?duì)柼渑_(tái)和熱臺(tái)，可在-165°C 到 1400°C 溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位分析
的分析性能，樣品倉可同時(shí)安裝三個(gè) EDS 探測(cè)器，其中兩個(gè) EDS端口分開 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD
針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確 EDS 和 EBSD 分析
靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺(tái)，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品
軟件直觀、簡(jiǎn)便易用，并配置用戶向?qū)Ъ?Undo（撤銷）功能，操作步驟更少，分析更快速
全新創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮 RGB 陰極熒光（CL）探測(cè)器、1100°C 高真空熱臺(tái)和 AutoScript（基于 Python 的腳本工具 API）
