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LOR負光刻膠,PMGI負光刻膠,MicroChem系列光刻膠-色譜柱

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具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2020-09-03
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 入駐年限11
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量403
  • 人氣值1576
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   上海尖豐光電技術(shù)有限公司是專業(yè)從事光電領(lǐng)域內(nèi)儀器設備代理與系統(tǒng)集成業(yè)務的綜合性服務商,主要代理國內(nèi)外品牌激光、光纖通信,光電子,光學儀器等光電產(chǎn)品的設計、引進、研發(fā),技術(shù)咨詢及銷售。目前我們代理的國內(nèi)外光電儀器,均為各自領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)優(yōu)勢產(chǎn)品。

   我們的客戶覆蓋各高校、*所屬各研究所、*各研究所、航空工業(yè)總公司各研究所、光電產(chǎn)業(yè)等不同領(lǐng)域。我們可以為用戶提供國外原廠生產(chǎn)的各類標準產(chǎn)品。我們也愿意根據(jù)用戶的具體要求,提供專業(yè)級光電實驗室解決方案的設計。
   團隊核心人員具有在行業(yè)內(nèi)10年以上的激光光電子領(lǐng)域工作經(jīng)驗,保持對各應用領(lǐng)域較早研究動向的了解,從而能夠結(jié)合我們的經(jīng)驗和儀器設備的技術(shù)特點,按照廣大用戶的不同應用要求,提供準確、*的各種儀器或系統(tǒng)解決方案。
我們核心競爭力在于:
 

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  • 交貨及時:高效快捷的進口以及代理流程,以豐富經(jīng)驗力爭讓用戶在Z短的時間內(nèi)收到訂購的儀器
  • 敬業(yè)精神:我們通過與客戶的充分溝通,盡可能滿足客戶的需求;我們不會因為訂單大小而區(qū)別對待客戶; 此外公司還為各院校及研究所提供散單、零采業(yè)務。我們歡迎客戶委托我們向國外廠商進口儀器,從而把客戶從繁瑣的進口手續(xù)中解放出來。
  • 性價比高:我們會以*惠的價格為您提供符合您要求的產(chǎn)品

         我們的宗旨是:客戶的支持和鼓勵是我們不斷成長壯大的源泉!

我們的合作伙伴:

 

  • 美國Qioptiq, Electrophysics, Optiphase, Optometrics, SP(spectral products), TTI,  Bati, Covega , Eospace, Fiber guide, General Products, GPD, Modu laser, OFR, REO, Roithner laser,
  • 德國Alphalas, ALS, Batop, Edge-wave, Linos, Nanoplus, Pyrosensor
  • 英國Point-source, Oxford, Phoenix Photonics ,Covesion, Leysop
  • 俄羅斯Electrooptic, Superlum, Tydex, Avesta, Cradley
  • 加拿大MPB , OZ, O-E land, IVG fiber
  • 法國Keopsys   日本Fiberlabs, NEL
  • 中國臺灣HCP, 新加坡Denselight, 波蘭Vigo, 荷蘭OKO等多個廠商

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LOR負光刻膠,PMGI負光刻膠,MicroChem系列光刻膠-色譜柱 產(chǎn)品詳情

PMGI 負光刻膠

產(chǎn)品名稱:光刻膠

型號:PMGI

關(guān)鍵詞:MicroChem系列光刻膠

PMGI & LOR負光刻膠使能高產(chǎn),廣泛應用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲和無線芯片到MEMS的金屬剝離。PMGI & LOR負光刻膠作為雙疊層光刻膠,PMGI & LOR在超出單層防腐可以延長限制剝離處理。這包括非常高的分辨率的金屬化(<0.25μM),以及非常厚(>4μm)金屬化。這些*的材料可幾乎滿足任何客戶需要。

材料用途:金屬電梯加工,橋制造,釋放層

材料屬性

l 覆蓋在成像抗蝕劑不會混雜

l 在TMAH雙疊層一步發(fā)展,或KOH開發(fā)

l 高熱穩(wěn)定性:Tg ~190 C

l 快速清除和常規(guī)抗剝離干凈

l 0.25μm微米雙層抗蝕成像

l 產(chǎn)量高,可用于很厚(>3μm)金屬剝離處理

Bi-Layer Lift-Off Process


Lift-Off: An enabling, additive lithographic process.

Step 1. LOR or PMGI is coated

1. Bi-layer resist pattern

Step 2. The imaging resist is coated onto the LOR or PMGI layer.

2. Metal Deposition

Step 3. The imaging resist is exposed.

3. Clean solvent lift-off

Step 4. The wafer is developed.

Step 5. Metal Deposition

Step 6. Lift-Off!

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