負(fù)性光刻膠
品牌：futurrex
產(chǎn)品介紹：
負(fù)性光刻膠分為粘性增強負(fù)性光刻膠、高級加工負(fù)性光刻膠、剝離處理用負(fù)性光刻膠三種。
A、粘性增強負(fù)性光刻膠
粘性增強負(fù)膠的應(yīng)用是在設(shè)計制造中替代基于聚異戊二烯雙疊氮（Polyioprene-Bisazide）的負(fù)膠。粘性增強負(fù)膠的特性是在濕刻和電鍍應(yīng)用時*的粘附力；很容易用光膠剝離器去除，厚度范圍是﹤0.1 ～ 120.0 μm，可在i、g以及h-line波長曝光。
粘性增強負(fù)膠對生產(chǎn)量的影響，消除了基于溶液的顯影和基于溶液沖洗過程的步驟。優(yōu)于傳統(tǒng)正膠的優(yōu)勢：控制表面形貌的優(yōu)異帶寬、任意甩膠厚度都可得到筆直的側(cè)壁、具有一次旋涂即可獲得100 μm甩膠厚度、厚膠層同樣可得到*的分辨率、150 ℃軟烘烤的應(yīng)用可縮短烘烤時間、優(yōu)異的光速度進(jìn)而增強曝光通量、更快的顯影，100 μm的光膠顯影僅需6 ～ 8分鐘、光膠曝光時不會出現(xiàn)光膠氣泡、可將一個顯影器同時應(yīng)用于負(fù)膠和正膠、不必使用粘度增強劑。
i線曝光用粘度增強負(fù)膠系列：NP9–250P、NP9–1000P、NP9–1500P、NP9–3000P、NP9–6000P、NP9–8000、NP9–8000P、NP9–20000P。
g和h線曝光用粘度增強負(fù)膠系列：NP9G–250P、NP9G–1000P、NP9G–1500P、NP9G–3000P、NP9G–6000P、NP9G–8000。
B、高級加工負(fù)膠
高級加工負(fù)膠的應(yīng)用是替代用于RIE加工及離子植入的正膠。高級加工負(fù)膠的特性在RIE加工時優(yōu)異的選擇性以及在離子植入時優(yōu)異的溫度阻抗，厚度范圍是﹤0.1 ～ 120.0 μm，可在i、g以及h-line波長曝光。
高級加工負(fù)膠優(yōu)于正膠的優(yōu)勢是控制表面形貌的優(yōu)異帶寬、任意甩膠厚度都可得到筆直的側(cè)壁、具有一次旋涂即可獲得100 μm甩膠厚度、厚膠層同樣可得到*的分辨率、150 ℃軟烘烤的應(yīng)用可縮短烘烤時間、優(yōu)異的光速度進(jìn)而增強曝光通量、更快的顯影，100 μm的光膠顯影僅需6 ～ 8分鐘、光膠曝光時不會出現(xiàn)光膠氣泡、可將一個顯影器同時應(yīng)用于負(fù)膠和正膠、優(yōu)異的溫度阻抗直至180 ℃、在反應(yīng)離子束刻蝕或離子減薄時非常容易地增加能量密度，從而提高刻蝕速度和刻蝕通量、非常容易進(jìn)行高能量離子減薄、不必使用粘度促進(jìn)劑。
用于i線曝光的高級加工負(fù)膠系列：NR71-250P、NR71-350P、NR71-1000P、NR71-1500P、NR71-3000P、NR71-6000P、NR5-8000。
- Negative Etch Resists
- Thick Negative Resists
- Negative Lift-Off Resists
| 負(fù)性光刻膠: | |
| 抗蝕刻負(fù)性光刻膠 | |
| 厚度范圍: | 0.5 - 200 微米 |
| Performance: |
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| 應(yīng)用: |
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| 厚膠 | |
| 厚度范圍: | 8 - 200 微米 |
| 特性: |
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| 應(yīng)用: |
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| Lift-off用光刻膠 | |
| 厚度范圍: | 0.5 - 40 微米 |
| 特性: |
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| 應(yīng)用: |
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