一、設(shè)備簡介：
PTL 系列低溫等離子表面處理設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng) 等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作 室進行抽真空達到 30-40pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)）， 其顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。 這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等 各種表面改性。
等離子處理優(yōu)點：
1. 環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。
2. 廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很 好地處理；
3. 溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。
4. 功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種 新的功能；
5. 低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成 本會大大低于濕法清洗。
6. 全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進行工藝質(zhì)量控制。
7. 處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
二、技術(shù)參數(shù)
1、設(shè)備外形尺寸: 450(W)×380(D)×330(H)mm
2、真空倉體尺寸: Φ165×220(L)mm （5L）
3、倉體結(jié)構(gòu): 高純石英腔體，外置電感耦合電極，無污染，內(nèi)置石英托盤。
4、等離子發(fā)生器: 原裝 PTL 公司射頻電源，頻率 13.56MHZ，功率 0-150W 調(diào)節(jié)，全電路保護，可連續(xù)長 時間工作。（風(fēng)冷）。
5、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動控制，采用歐姆龍、施耐德等進口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制 模式，真彩臺達觸摸屏，西門子可編程控制器（PLC），美國產(chǎn)真空壓力傳感系統(tǒng)，可在線設(shè)定、修改、 監(jiān)控真空壓力、處理時間、等離子功率等工藝參數(shù)，并具有故障報警、工藝存儲等多種功能。在自動模式 下設(shè)置各項工藝參數(shù)，即可一鍵啟動，連續(xù)重復(fù)運行。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。
三、工藝流程：
3.1 處理工藝流程 裝入工件→抽真空→沖入反應(yīng)氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件
3.2 工藝控制：
3.2.1 處理時間控制： 1 秒～120 分鐘連續(xù)可調(diào)。
3.2.2 等離子放電壓力：30～80Pa
3.2.3 功率設(shè)定范圍：0～150W 連續(xù)可調(diào)
3.2.4 流量設(shè)定范圍： 氣體 1（0～300ml/min） 氣體 2（0～500ml/min）
3.3 PLC 軟件功能（操控界面）
3.3.1 主畫面：實時監(jiān)視并顯示運行狀態(tài)及數(shù)據(jù)，等離子電源功率、閥門開關(guān)、真空壓力、運行時間等。
3.3.2 參數(shù)設(shè)置：可設(shè)定、修改工藝參數(shù)及步驟
3.3.3 工作狀態(tài)：可在線查看真空壓力、等離子功率等數(shù)據(jù)及狀態(tài)
3.3.4 故障報警：多種故障檢測、報警及互鎖保護。
四、真空泵：VRD-8
五、場地要求
電 源：兩相三線，獨立接地，接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積 3mm2以上的接地線將設(shè)備接至 PE。
真空泵排放氣管：軟管，管徑（內(nèi)徑）建議將排氣管接至室外
場地溫度：≤40℃
相對濕度：RH（35-85）%
