納米線性位移平臺SLLV42是長行程范圍的線性納米位移平臺,基于循滑塊設計，小滑塊結合不同長度的導軌，使其可以進行精確遠程納米位移定位或在有限空間內大行程范圍的納米位移定位。可以在同一個軌道上放置多個滑塊。
納米線性位移平臺SLLV42可由我們的任何控制單元操作，也可用于高真空應用。
納米線性位移平臺SLLV42規(guī)格參數
納米線性位移平臺SLLV42可選項目
多運載滑塊
沉頭孔、螺紋孔（M4）
黑色陽極氧化（-BK）
閉環(huán)所需的螺紋孔M4
-HV (10-6 mbar) 3
納米線性位移平臺SLLV42配件
納米線性位移平臺SLLV42具有多種配件方便用戶使用,可以配備各種規(guī)格的適配板,也可集成壓電驅動導軌用于搭建各種復雜納米定位系統(tǒng)。
納米線性位移平臺SLLV42配件-被動運載滑塊-可以安裝到各種導軌上,方便移動定位樣品
納米線性位移平臺SLLV42配件-終點阻擋器-安裝到線性定位臺上方便阻擋滑塊脫軌
納米線性位移平臺SLLV42配件-寬定位臺適配器-能夠適配不同寬度的納米線性定位臺
納米線性位移平臺SLLV42應用案例
我們采用兩個納米線性位移平臺SLLV42和一套SR-7012納米旋轉定位臺組成了3D納米微操作器,能夠負載300克樣品,在XY和旋轉方向為用戶提供納米定位,可用于真空環(huán)境,非常適合用于SEM掃描電子顯微等樣品定位。
納米線性位移平臺SLLV42可由我們的任何控制單元操作，也可用于高真空應用。
納米線性位移平臺SLLV42規(guī)格參數
| 型號 | SLL12 | SLLA42 | SLLV42 |
| 分辨率 | <1nm | <1nm | <1nm |
| 負載 | 30N(3kg) | 30N(3kg) | 30N(3kg) |
| 適合真空度 | 10-11 mbar | 10-11 mbar | 10-11 mbar |
| 行程范圍 | 70~475mm | 70~1480mm | 70~1480mm |
| 步進1 | 1-1500nm | 1-1500nm | 1-1500nm |
| 掃描范圍 | >1.5um | >3um | >3um |
| 掃描分辨率 | <1nm | <1nm | <1nm |
| 速度 | >20mm/s | >20mm/s | >20mm/s |
| 頻率 | 18.5KHz | 18.5KHz | 18.5KHz |
| 阻尼力Fb | >3N | >5N | >5N |
| 正向力Fn | 30N | 30N | 30N |
| 升力Fl | >1N | >1.5N | >1.5N |
| 尺寸 | 33.8 x 27 x 13 mm3 | 54 x 60 x 16 mm3 | 54.8 x 60 x 16 mm3 |
| 重量 | 44g | 148g | 148g |
| 鋼軌重 | 59 g / 100 mm | 286 g / 100 mm | 286 g / 100 mm |
| pitch俯仰力矩Mp | 6Nm | 25Nm | 25Nm |
| yaw偏航力矩My | 6Nm | 25Nm | 25Nm |
| roll扭轉力矩Mr | 11Nm | 90Nm | 90Nm |
| Closed-Loop-S 傳感器分辨率 | 1nm | 1nm | 1nm |
| Closed-Loop-S 重復精度 | ± 70 ~450 nm 2 | ± 70 ~450 nm 2 | ± 70 ~450 nm 2 |
多運載滑塊
沉頭孔、螺紋孔（M4）
黑色陽極氧化（-BK）
閉環(huán)所需的螺紋孔M4
-HV (10-6 mbar) 3
納米線性位移平臺SLLV42配件
納米線性位移平臺SLLV42具有多種配件方便用戶使用,可以配備各種規(guī)格的適配板,也可集成壓電驅動導軌用于搭建各種復雜納米定位系統(tǒng)。
納米線性位移平臺SLLV42配件-被動運載滑塊-可以安裝到各種導軌上,方便移動定位樣品
納米線性位移平臺SLLV42配件-終點阻擋器-安裝到線性定位臺上方便阻擋滑塊脫軌
納米線性位移平臺SLLV42配件-寬定位臺適配器-能夠適配不同寬度的納米線性定位臺
納米線性位移平臺SLLV42應用案例
我們采用兩個納米線性位移平臺SLLV42和一套SR-7012納米旋轉定位臺組成了3D納米微操作器,能夠負載300克樣品,在XY和旋轉方向為用戶提供納米定位,可用于真空環(huán)境,非常適合用于SEM掃描電子顯微等樣品定位。
