公司介紹：
NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發(fā)與銷售經(jīng)驗。在范圍內，通過與眾多來自同步輻射科學，阿秒科學，高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作，積累了大量*的設計與制造技術，其產(chǎn)品在業(yè)內享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率，高聚光效率等特點，適合被各種輻射光設施使用。另外，分辨率測試卡被當作業(yè)界的標準。不只是學術研究，在X射線的檢查裝置開發(fā)現(xiàn)場也被廣泛使用。XUV鏡片，XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助，對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X線領域給予客戶在研發(fā)上的幫助。
產(chǎn)品介紹：
用于X射線分析的分辨率評估圖的事實上的標準
優(yōu)點
恩梯梯技術公司的X射線分辨率評估圖被應用于X射線顯微鏡、X射線微光束分析和X射線成像等需要超高分辨率的X射線分析。此已成為事實上標準的X射線圖被廣泛應用于世界上許多地方。
恩梯梯技術公司的X射線圖的特點是高耐X射線輻射性、超清晰圖案和低邊緣粗糙度。本公司基于Ta吸收體圖的SiC膜極其精確，能為用戶的X射線分析系統(tǒng)評估提供清晰的圖像。
您不嘗試一下這事實上標準的性能嗎？
特點：
有三種X射線圖可應用于各種方面：標準型、高分辨率和高對比度型以及超高分辨率型?？蔀橛脩舻南到y(tǒng)定制圖案布局和基板尺寸。
有三種X射線圖可應用于各種方面：標準型、高分辨率和高對比度型以及超高分辨率型?？蔀橛脩舻南到y(tǒng)定制圖案布局和基板尺寸。
規(guī)格
| 項目 | 標準型 XRESO-100 | 高分辨率型 帶較厚Ta 吸收體 XRESO-50HC | 新！！ 超高分辨率 XRESO-20 | |
|---|---|---|---|---|
| 基板 | 材料、尺寸 | Si 10平方毫米 | ||
| 厚度 | 1毫米 | 1毫米 | 0.625毫米 | |
| 膜 | 材料、 厚度 | Ru 20納米 SiN 2微米 | Ru 20納米 SiC 200納米 SiN 50納米 | Ru 20納米 SiC 200納米 SiN 50納米 |
| 區(qū)域 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | |
| 對齊 | 基板中間 | 基板中間 | 基板中間 | |
| 圖案 | 吸收體、 厚度 | Ta 1微米 | Ta 500納米 | Ta 100納米 |
| 最小圖案 尺寸 | 100納米 | 50納米 | 20納米 放射形圖案 | |
| 圖案區(qū)域 | 250微米×350微米 | 300平方微米 | 300平方微米 | |
恩梯梯技術公司的已成為事實上標準的X射線分辨率評估圖在世界上被用于企業(yè)、大學和研究所。
超高分辨率型 XRESO-20
XRESO-20是具有20納米最小圖案寬度的超高分辨率評估圖。2014年開始銷售的此高規(guī)格型號最近被應用于超高分辨率X射線成像系統(tǒng)。
| 圖的SEM圖像 | 圖案布局 |
|---|---|
| 100納米孔 |
①放射形圖案 ③④孔圖案 ⑤⑥⑦⑧L&S圖案 |
| |
| 50納米孔 | |
 | |
| 20納米圖案 | 20納米放射形圖案 |
 |  |
超高分辨率型 XRESO-20
XRESO-20是具有20納米最小圖案寬度的超高分辨率評估圖。2014年開始銷售的此高規(guī)格型號最近被應用于超高分辨率X射線成像系統(tǒng)。
| 圖案布局 |
|---|
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帶較厚吸收體的高分辨率型 XRESO-50HC
XRESO-50HC提供成本合理的50納米高分辨率。其已被應用于X射線微光束輻射、X射線顯微鏡和X射線相干成像等各種用途。
| 圖的SEM圖像 | 圖案布局 |
|---|---|
| 放射形圖案 相應于圖案布局的點（1） |  |
| |
| 50納米 L&S 相應于圖案布局的點（2） | |
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