Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 技術(shù)規(guī)格:
實(shí)時(shí)過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具*集成
Aston™ 過程質(zhì)譜分析儀作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston™ 過程質(zhì)譜分析儀技術(shù)參數(shù)
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號(hào) | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質(zhì)量分離 | 四級(jí)桿 | |||||
真空系統(tǒng) | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
檢測器 | FC /SEM | |||||
質(zhì)量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
Atonarp Aston™ 應(yīng)用: 半導(dǎo)體工藝過程控制和優(yōu)化的重大發(fā)展, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新設(shè)計(jì)堅(jiān)固耐用的緊湊型在線質(zhì)譜儀, 適用于半導(dǎo)體制造和工業(yè)過程控制應(yīng)用中氣體監(jiān)測和控制, 高定量精度和實(shí)時(shí)性與生產(chǎn)穩(wěn)健性和可靠性相結(jié)合, 例如半導(dǎo)體 dry pump 尾氣偵測分析, 實(shí)現(xiàn)在線監(jiān)控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識(shí)別跟蹤分子
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