Apreo 革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù),可產(chǎn)生的高分辨率和信號(hào)選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺(tái),并且不會(huì)降低磁性樣品性能。
Apreo 受益于*的透鏡內(nèi)背散射探測,這種探測提供**的材料對(duì)比度,即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時(shí)也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對(duì)比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾??蛇x低真空模式,現(xiàn)在的**樣品倉壓力為 500 Pa,可以對(duì)要求*嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。
通過這些優(yōu)勢(包括復(fù)合末級(jí)透鏡、高級(jí)探測和靈活樣品處理),Apreo 可提供出色的性能和多功能性,幫助您應(yīng)對(duì)未來的研究難題。
性能特點(diǎn)
的復(fù)合末級(jí)透鏡可在任何樣品(甚至在傾斜時(shí)貌起伏大)上提供優(yōu)異的分辨率(1 kV 電壓下為 1.0 nm),而無需進(jìn)行電子束減速。
作用極大的背散射探測始終可保證良好的材料對(duì)比度,即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對(duì)電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時(shí)也不例外。
無比靈活的探測器可將各個(gè)探測器分割提供的信息相結(jié)合,讓用戶能夠獲得至關(guān)重要的對(duì)比或信號(hào)強(qiáng)度。
各種各樣的電荷緩解策略,包括倉室壓力**為 500 Pa 的低真空模式,可實(shí)現(xiàn)任何樣品的成像。
**的分析平臺(tái)提供高電子束電流,而且束斑很小。倉室支持三個(gè) EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對(duì)分析而優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
樣品處理和導(dǎo)航極容易,具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
應(yīng)用領(lǐng)域
掃描電鏡**地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。