關(guān)鍵詞：多靶磁控濺射、共濺射、Co-sputter、金屬膜、氧化膜、半導(dǎo)體膜、非金屬膜、約瑟夫森結(jié)、
超導(dǎo)、量子器件、量子比特、 Qubit、鈮基超導(dǎo)、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、
sputtering system、Josephson junction
設(shè)備型號(hào)：MP600S; 產(chǎn)地：歐洲； 應(yīng)用：制備鈮基超導(dǎo)結(jié)或?yàn)R射其他膜材
磁控濺射鍍膜系統(tǒng)可以沉積各種金屬、半導(dǎo)體、非金屬薄膜，又特別適合用于超導(dǎo)量子結(jié)、約瑟夫森結(jié)等量子器件的制備，例如：超導(dǎo)Nb、NbN、NbTiN及其他材料等，
目前，包括物理所、清華大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、蘇州醫(yī)工所、長春光機(jī)所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關(guān)設(shè)備；在國際上也獲得了美國(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機(jī)構(gòu)的高度認(rèn)可。
