EVO系列鎢燈絲掃描電子顯微鏡 EVO 18
EVO® 18，具有處理所有類型 材料能力的分析顯微鏡為您 提供的成像質(zhì)量。
標(biāo)配能譜儀（EDS）和波譜儀（WDS）接口，的 X 射線幾何條件對所 有樣品提供了確的分析。對于非導(dǎo)體采用電子束襯管技術(shù)也提高了圖像質(zhì)量和分析精度。可選擇 LaB6 高亮度光源，在與 X 射線分析相適應(yīng)的探針 電流的性能上提高到一個新 的水平。在 8.5 mm 的分析工作距離，EVO® 18 能夠處理的 樣品可達(dá) 250 mm 直徑和 145mm 高。此外，共面的設(shè)計為 EBSD 與 EDS 的聯(lián)合使用提 供了理想的幾何條件。無論何時對于你的材料分析的挑戰(zhàn)，EVO® 18 都能使你的 樣品清晰可見。
● 配備 X 射線能譜儀并具有的 X 射線分析幾何條件
● 使用可變壓力工作模式進(jìn)行 樣品的電荷中和
● 大的樣品臺移動范圍
● 電子束襯管用于增強成像與 分析
● 用可選的 LaB6 電子源進(jìn)行高性能成像
EVO® 18-圓滿的材料分析解決方案
解決方案提供商卡爾•蔡司的納米技術(shù)系統(tǒng)部采用的 電子顯微鏡技術(shù)為用戶提供全面的解決方 案。公司廣闊的專業(yè)技術(shù)，在電子束技術(shù)領(lǐng) 域中進(jìn)行了超過 60 年的一絲不茍的努力， 對市場已經(jīng)產(chǎn)生了很多開拓性的創(chuàng)新。我們 的應(yīng)用與服務(wù)網(wǎng)絡(luò)保證對用戶的需求 提供快速、可靠與高質(zhì)量的技術(shù)支持。與專 有的升級戰(zhàn)略相結(jié)合，這將保護(hù)你的投資用 于它的整個壽命。這個核心技術(shù)嵌入我們新 研發(fā)的產(chǎn)品中，使我們能夠提供為我們用戶 的事業(yè)增值的解決方案。
技術(shù)參數(shù)：
成像方案: 導(dǎo)體 非導(dǎo)體 氣體析出樣品
分辨率: 3.0 nm @ 30 kV (SE 與 W)
10 nm @ 3 kV (SE 高真空 )
4.0 nm @ 30 kV (VP 模式 - BSD 或 SE)
加速電壓：0.2 - 30 kV 10V連續(xù)可調(diào)
放大倍數(shù): 5 - 1,000,000 x
視野: 6 mm 在分析工作距離(AWD)
X 射線分析: 8.5 mm AWD，35°出射角
OptiBeam®*模式: 分辨率、景深、分析、大視場、魚眼
壓力范圍: 10 - 400 Pa 用空氣或可選的水蒸汽
可選探測器: ZEISS BSD 用于所有模式- 四象限半導(dǎo)體二極管探測器
VPSE - 可變壓力二次電子探測器
SCD - 樣品電流探測器
樣品室尺寸: 365 mm (Φ) x 255 mm (h)
5 軸電動計算機對中樣品臺: X = 125 mm
Y = 125 mm
Z = 50 mm
樣品高度 145 mm
T = -10 - 90°
R = 360°(連續(xù))
樣品臺由鼠標(biāo)、操縱桿和控制板控制
未來保證升級途徑: 電子束襯管
擴展壓力
水蒸汽 VP 氣體
圖像處理: 分辨率可達(dá) 3024 x 2304 像素 用疊加和平均方式進(jìn)行信號采集
圖像顯示: 高對比度彩色平板 TFT 顯示器用于以 1024 x 768 像素顯示 SEM 圖像
系統(tǒng)控制: 用鼠標(biāo)和鍵盤操作的 SmartSEM™** GUI多語言簡明的 Windows® 7 操作系統(tǒng)
實用要求: 100 – 230 V, 50 或 60Hz 單相 不需要水冷
OptiBeam®* — 以主動式鏡筒控制實現(xiàn)分辨率、視野或者景深
SmartSEM™** — 第五代掃描電鏡控制圖形用戶界面
