近紅外全角度透反射測量系統(tǒng)，900-2500nm，應(yīng)用于材料測量領(lǐng)域
樣品材料中的很多成份，當(dāng)光束以不同的角度入射時，得到的透射率和反射率會因入射角度的變化而變化。通過測量不同角度入射，可獲取材料在正入射時所得不到的信息，確定材料的最敏感角度，可以為進(jìn)一步的研究或設(shè)計測量儀器提供依據(jù)。
我們提供可見-近紅外全角度透反射測量系統(tǒng)搭配光譜儀和其他測量附件，可以實現(xiàn)光源的不同角度入射和接收，適用于mm量級樣品的透射光譜測量及反射光譜測量。透反射光譜測量系統(tǒng)采用電控獨立雙軸設(shè)計，配備高精度步進(jìn)電機(jī)，控制發(fā)射端和接收端的角度測量，角分辨率達(dá)0.001°，重復(fù)精度達(dá)0.05°。光譜范圍覆蓋900-2500nm，通過軟件控制發(fā)射端和接收端的角度，實現(xiàn)快速的光譜測量，可用于透射/反射/散射/熒光/輻射等多種全角度模式的光譜測量。
主要特點：
-全角度測量：反射和透射，可以實現(xiàn)-90°至90°范圍測量，散射、熒光和輻射，可以實現(xiàn)0°至180°測量。
-多種角度測量模式：可以進(jìn)行反射、透射、熒光、散射輻射等多種光譜測量
-精確角度控制：高精度電機(jī)，角度精度達(dá)0.05°
-多維調(diào)節(jié)樣品臺：樣品臺由高精度三維位移臺和三維旋轉(zhuǎn)臺組成，可實現(xiàn)樣品的6維調(diào)節(jié)
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 近紅外全角度透反射測量系統(tǒng) |
| 產(chǎn)品型號 | XPNIR-RTM-A1 |
| 光譜范圍 | 900-2500nm |
| 有效像素 | 512 |
| 信噪比 | >10000：1@100ms integration |
| 測量時間 | 小于1秒 |
| 檢測器 | 帶制冷，可制冷至-20℃ |
| 光源光譜范圍 | 350-2500nm |
| 光源功率 | 100W |
| 光錐半角 | 3° |
| 入射范圍 | -90°-90° |
| 出射范圍 | 0-360° |
| 最小步距 | 0.005° |
| 重復(fù)精度 | 0.05° |
| 測量模式 | 反射測量、透射測量、散射測量、熒光測量、輻射測量等 |
| 樣品臺 | 高精度三維位移臺加三維旋轉(zhuǎn)臺 |
-快速測量：快速對樣品實現(xiàn)多種角度模式的光譜測量
-可選配件多樣：根據(jù)客戶的不同測量應(yīng)用，可以選擇不同的光源、濾光片、偏振片等配件完成不同的測量應(yīng)用
多種全角度測量模式：
光譜角度測量模式：
反射式角度測量模式：鏡面樣品的反射夾角0°~180°，實現(xiàn)光譜的全角度測量。
透射式角度測量模式：入射角-90°~90°，接收角和入射角成180°（同一直線），實現(xiàn)透射光譜的全角度測量。
散射和熒光角度測量模式：入射角-90°~90°的任意角度上變化，接收角0°~360°范圍內(nèi)變化，實現(xiàn)散射和熒光光譜的全角度測量。
輻射角度測量模式：接收角0~360°范圍內(nèi)變化。
主要應(yīng)用：
-納米光學(xué)材料
-材料鍍膜
-光子晶體器件
-傳感器器件制備
-LED光源
-液晶顯示
-角度相關(guān)材料分析
