最初的ICP反應(yīng)器由石英管組成,射頻線圈纏繞在石英管周?chē)援a(chǎn)生等離子體,從而產(chǎn)生各向異性蝕刻。感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE有多種類(lèi)型,其中一種重要類(lèi)型是將電容耦合偏壓與樣品臺(tái)相結(jié)合,以實(shí)現(xiàn)電感耦合RF等離子體蝕刻特性的工藝控制。應(yīng)用包括電介質(zhì)材料的干蝕刻。
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