科研爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。

主要技術指標：

爐管數(shù)：1～4管

配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸)

恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃)  760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

單點穩(wěn)定性： ±1.0℃/24h (300～800℃)    ±0.5℃/24h (800～1280℃)

氣源路數(shù)：  ≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器

氣體控制：  浮子/質量流量計

懸臂舟參數(shù)： 速度：20～1000 mm/min    

         行程：2000 mm    

         定位精度：±1 mm    

         載荷：17 Kg

超凈工作臺： 凈化等級：100級（萬級廠房）

噪音：    ≤62dB（A）

振動：    ≤3μm

設備特點：單元組合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。  

晨立科研爐設備,技術和質量已達國際水平,受到半導體設備制造企業(yè)和半導體行業(yè)高度關注.可替代國外同規(guī)格產(chǎn)品滿足不同工藝的要求。