科研設備 科研儀器設備  科研爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
 

科研設備 科研儀器設備  科研爐主要技術參數： 
◆工藝管數量：1-4管
◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆工作溫度范圍：400～1280℃
◆恒溫區(qū)長度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆結構型式：臥式熱壁型
◆氣體流量設定精度:±1％F.S
◆氣路系統(tǒng)氣密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超凈工作臺：凈化等級：100級（萬級廠房）噪音：≤62dB（A）震動：≤3μm
◆記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制
◆控制方式： 工業(yè)微機控制

晨立公司擁有十幾年的專業(yè)研發(fā)制造經驗。自成立以來，堅持產品設計和服務質量共同發(fā)展，積極進取，精益求精，不斷提高產品核心競爭力。公司產品擁有自主產權。有5名中、高級職稱的工程師組成業(yè)的研發(fā)團隊，從事熱工行業(yè)近20年之久，有豐富的生產制造經驗。

公司本著和諧、共贏，以“質量求發(fā)展、以誠信為根本、以客戶為中心、以用戶滿意”為最終目標的企業(yè)方針，為客戶提供優(yōu)質的產品，優(yōu)良的服務。