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Zeta-20臺(tái)階儀(光學(xué)輪廓儀)

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  • 更新時(shí)間2023-07-27
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量11
  • 人氣值42
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北京中海遠(yuǎn)創(chuàng)材料科技有限公司,專業(yè)負(fù)責(zé)KLA(科磊半導(dǎo)體)微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)(納米壓痕儀、SEM原位壓痕儀、拉伸儀等)、探針式臺(tái)階儀、形貌儀、三維光學(xué)輪廓儀等設(shè)備技術(shù)的銷售和技術(shù)應(yīng)用服務(wù)工作。KLA公司是工藝控管與良率管理解決方案的業(yè)界者,與世界各地的客戶合作開(kāi)發(fā)的檢測(cè)和量測(cè)技術(shù),并且將這些技術(shù)致力于*材料、物理、微器件、半導(dǎo)體、LED 及其他相關(guān)微納研究和生產(chǎn)領(lǐng)域。憑借行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品組合和的工程師及科學(xué)家團(tuán)隊(duì),近 40 年來(lái)公司持續(xù)為客戶打造的解決方案。北京中海遠(yuǎn)創(chuàng)材料科技有限公司是KLA微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)、SEM/FIB原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)、探針式臺(tái)階儀、三維光學(xué)輪廓儀等設(shè)備的渠道商,服務(wù)范圍遍及全國(guó)各地。微納力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)包括業(yè)內(nèi)聲譽(yù)很高應(yīng)用很廣泛的G200、iMicro、iNano型納米壓痕儀,T150型納米拉伸儀,以及常溫和高溫原位納米壓痕儀等等。KLA公司新研發(fā)的G200X型納米壓痕儀在G200型的基礎(chǔ)上又增加了一些新功能,使設(shè)備的性價(jià)比又提高了一個(gè)新臺(tái)階。輪廓儀系統(tǒng)包括的Zeta系列,P系列、D系列等產(chǎn)品。我公司擁有一支專業(yè)誠(chéng)信的技術(shù)、銷售、管理團(tuán)隊(duì),有著豐富的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),自公司創(chuàng)立以來(lái),在科研、生產(chǎn)等多個(gè)領(lǐng)域?yàn)榭蛻籼峁┝擞懈?jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)。我們始終秉承服務(wù)至上的宗旨,依托專業(yè)化的團(tuán)隊(duì)、全國(guó)性的營(yíng)銷網(wǎng)絡(luò)和的品牌,在不斷優(yōu)化服務(wù)質(zhì)量、擴(kuò)大市場(chǎng)輻射范圍的同時(shí),為客戶提供更全面的服務(wù)。
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產(chǎn)品描述Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)
Zeta-20臺(tái)階儀(光學(xué)輪廓儀) 產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品描述

Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot測(cè)量模式可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。ZDot或集成寬帶反射儀都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。Zeta-20也是一種顯微鏡,可用于樣品復(fù)檢或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。Zeta-20通過(guò)提供全面的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

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主要功能

·   采用ZDotMulti-Mode(多模式)光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀,具有廣泛應(yīng)用

·   可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡

·   ZDot:同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像

·   ZXI:白光干涉測(cè)量技術(shù),適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量

·   ZIC:干涉對(duì)比度,適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

·   ZSI:剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

·   ZFT:使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率

·   AOI:自動(dòng)光學(xué)檢測(cè),并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化

·   生產(chǎn)能力:通過(guò)測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量


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主要應(yīng)用

·   臺(tái)階高度:納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度

·   紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

·   外形:3D翹曲和形狀

·   應(yīng)力:2D薄膜應(yīng)力

·   薄膜厚度:30nm100μm透明薄膜厚度

·   缺陷檢測(cè):捕獲大于1μm的缺陷

·   缺陷復(fù)檢:采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置


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工業(yè)應(yīng)用

·   太陽(yáng)能:光伏太陽(yáng)能電池

·   半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

·   半導(dǎo)體 WLCSP(晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝)

·   半導(dǎo)體FOWLP(扇出晶圓級(jí)封裝)

·   PCB和柔性PCB

·   MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))

·   醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備

·   數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

·   大學(xué),研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

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關(guān)鍵詞:輪廓儀 顯微鏡
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