系統(tǒng)簡(jiǎn)介
光學(xué)輪廓儀是用于3D形貌定量測(cè)試,表面粗糙度檢測(cè)的理想非接觸式檢測(cè)工具。 可以測(cè)量各種材料的面形,提供各種參數(shù),包括表面結(jié)構(gòu),面形和臺(tái)階高度等等的2D和3D 圖形。與探針式接觸式輪廓儀相比,由于采用非接觸式的測(cè)量系統(tǒng),沒有耗材,不會(huì)引起待測(cè)件的損傷。
IMOS nanoprofilometer光學(xué)表面輪廓儀設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,具有兩種測(cè)量模式,可定量測(cè)量微米尺度和納米尺度表面形貌輪廓。具有測(cè)量速度快,測(cè)量精度高,性價(jià)比高的特點(diǎn)。
系統(tǒng)特點(diǎn)
測(cè)量各種材料的面形,包括平坦度,粗糙度,面形和臺(tái)階高度等
測(cè)量精度高,Z方向精度可打30pm
測(cè)量速度快,幾秒鐘內(nèi)可捕捉超過(guò)兩百萬(wàn)數(shù)據(jù)點(diǎn)。
與同類產(chǎn)品相比較(包括探針式接觸式輪廓儀)具有高性價(jià)比,
結(jié)構(gòu)緊湊,抗振隔振。
非接觸式的測(cè)量系統(tǒng),沒有耗材,不會(huì)引起待測(cè)件的損傷。
操作簡(jiǎn)便,易于維護(hù)
支持大面積拼接測(cè)量
系統(tǒng)參數(shù)
測(cè)量面積 | 0.4X0.3mm2 |
橫向精度 | >1µm |
縱向精度 | 30pm (Nanorelief模式) 0.3µm (Microrelief模式) |
測(cè)量范圍 | 20µm (Nanorelief模式) 50mm (Microrelief模式) |
測(cè)試實(shí)例

